ICS13.030.20 Z 05 中华人民共和国国家标准 GB/T 34697—2017 含氟蚀刻废液处理处置方法 Treatment and disposal method for spent fluoric etchant 2017-11-01发布 2018-05-01实施 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 发布 中国国家标准化管理委员会 GB/T34697—2017 前言 本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。 本标准由中国石油和化学工业联合会提出。 本标准由全国废弃化学品处置标准化技术委员会（SAC/TC294)归口。 本标准起草单位：杭州格林达化学有限公司、昆明培铭科技有限公司、常州清流环保科技有限公司、 深圳市中润水工业技术发展有限公司、四川省中明环境治理有限公司、深圳慧欣环境技术有限公司、重 庆蓝洁广顺净水材料有限公司、厦门高普尔自动化设备有限公司、江西核工业环境保护中心、浙江海翔 净水科技有限公司、天津理工大学、重庆大学、重庆新申世纪化工有限公司、中海油天津化工研究设计院 有限公司。 李梅彤、陈玉英、陈建敏、郑怀礼、申静、弓创周。 1 GB/T 34697—2017 含氟蚀刻废液处理处置方法 1范围 本标准规定了含氟蚀刻废液组成、处理处置方法及环境保护要求。 本标准适用于TFT-LCD液晶显示屏玻璃蚀刻、光伏行业蚀刻、IC硅片蚀刻、电极箔蚀刻及稀土蚀 刻所产生含氟蚀刻废液的处理处置。 2 规范性引用文件 下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，仅注日期的版本适用于本文 件。凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。 GB 5085.7 危险废物鉴别标准通则 GB 8978 污水综合排放标准 GB 16297 大气污染物综合排放标准 GB 18599 般工业固体废物贮存、处置场污染控制标准 GB/T 23936 工业氟硅酸钠 GB/T 27804 氟化钙 GB/T28653 工业氟化铵 GB/T28655 工业氟化氢铵 HG/T4692 工业氟硅酸铵 HG/T4693 工业氟硅酸钾 YS/T 691 氟化镁 含氟蚀刻废液组成 3 含氟蚀刻废液主要组成见表1。 表1主要组成 来源 项目 TFT-LCD液晶显示屏玻璃蚀刻、 电极箔蚀刻废液 稀土蚀刻废液 光伏行业蚀刻、IC硅片蚀刻废液 氢氟酸(HF)w/% 1~10 1~10 5~15 氟硅酸（H,SiF）w/% 5~15 3~10 盐酸(HCI)w/% 8~8 ≤0.1 硫酸(H,SO,)w/% 1~3 1~3 硝酸（HNO）w/% 2~10 1~3 0.1~0.5 氟化氢铵（NH,HF2）w/% 5~15 1 GB/T34697—2017 4处理处置方法 4.1TFT-LCD液晶显示屏玻璃蚀刻、光伏行业蚀刻及IC硅片蚀刻废液再生回用 4.1.1原理 利用除杂剂对TFT-LCD液晶显示屏玻璃蚀刻、光伏行业蚀刻及IC硅片蚀刻后产生的含氟蚀刻废 液进行处理，过滤除去其中主要杂质氟硅酸（去氟硅酸盐生产系统），滤液再经过1级、2级膜处理提浓 处理后导入到混配反应釜中，加人含一定量氢氟酸的复配酸，得到符合适用条件的TFT-LCD液晶显示 屏玻璃蚀刻、光伏行业蚀刻及IC硅片蚀刻液，重新返回至蚀刻槽中使用。 4.1.2工艺流程 在含氟蚀刻废液中加入除杂剂.经搅拌、过滤、两级膜处理后.进入复配反应釜加入复配酸，充分搅 拌后得到TFT-LCD液晶显示屏玻璃蚀刻、光伏行业蚀刻及IC硅片蚀刻液。含氟蚀刻废液再生工艺流 程见图1。 除杂剂 复配酸 除杂 含氟蚀刻度液 过滤 1级膜处理 2级膜处理 复配反应 含氟蚀刻液 反应 + t 滤渣 废渣 废水 t 生产 废水处 氟硅酸盐 理系统 图1含氟蚀刻废液再生工艺流程图 4.1.3工艺参数 含氟蚀刻废液再生工艺参数如下： 除杂反应温度：常温； 除杂反应酸度（以H+计）：不大于1.0mol/L； 2212 除杂反应时间：0.5h~1.0h； 膜处理温度：常温； 复配反应温度：常温； 复配反应酸度（以H+计）：不大于1.0mol/L。 4.1.4生产设备 含氟蚀刻废液再生所需主要设备有反应釜、过滤设备、膜处理设备、通风设备、包装设备等。 4.1.5技术评价 TFT-LCD液晶显示屏玻璃蚀刻、光伏行业蚀刻及IC硅片蚀刻废液再生技术评价见表2。 2