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T-IAWBS 011—2019 导电碳化硅单晶片电阻率测量方法—非接触涡流法.pdf
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| 2025-04-03
T-IAWBS 010—2019 碳化硅单晶抛光片表面质量和微管密度检测方法-激光散射检测法.pdf
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5.0 分
0.3 元 | 6 页 | 433.7 KB
| 2025-04-03
T-CASAS 009—2019 半绝缘碳化硅材料中痕量杂质浓度及分布的二次离子质谱检测方法.pdf
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5.0 分
0.6 元 | 12 页 | 1.5 MB
| 2025-04-03
T-CASAS 004.2—2018 4H碳化硅衬底及外延层缺陷图谱.pdf
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3.5 元 | 71 页 | 3.6 MB
| 2025-04-03
T-CASAS 004.1—2018 4H碳化硅衬底及外延层缺陷术语.pdf
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| 2025-04-03
T-CASAS 003—2018 p沟道IGBT器件用4H碳化硅外延晶片.pdf
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| 2025-04-03
T-IAWBS 007—2018 4H 碳化硅同质外延层厚度的红外反射测量方法.pdf
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| 2025-04-03
T-IAWBS 006—2018 碳化硅混合模块测试方法.pdf
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| 2025-04-03
T-IAWBS 005—2018 6 英寸碳化硅单晶抛光片.pdf
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| 2025-04-03
T-ZZB 0686—2018 高性能无压烧结碳化硅密封环.pdf
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