VVGB-T 43087-2023 微束分析分析电子显微术层状材料截面像中界面位置的确定方法

ICS71.040.50 CCSN33 GB 中华人民共和国国家标准 GB/T43087—2023 微束分析分析电子显微术层状材料截面像中界面位置的确定方法 Microbeam analysisAnalytical electronmicroscopy-Method for the determination of interfaceposition in thecross-sectional image of thelayered materials （ISO20263:2017M0D) 2023-09-07发布 2024-04-01实施国家市场监督管理总局发布国家标准化管理委员会 GB/T43087—2023 目次前言川引言 IV 1 范围 2 规范性引用文件 3 术语、定义和符号· 3.1术语和定义 3.2 符号 4 截面试样的制备 4.1 通则 4.2 截面试样的要求界面位置的确定 5.1 概述 5.2 准备工作 6 界面位置测定步骤 6.1 概述 6.2 截面TEM像/STEM像的获取 6.3 ROI的设置 6.4 均值强度曲线的获取 6.5 移动平均处理 6.6 差分处理· L 6.7 界面位置的确定…… 不确定度 7.1 处理过程中各个步骤累积的不确定度 7.2 图像分析中测量结果的不确定度附录A（资料性）三种类型实际TEM像/STEM像的处理示例 20 A.1 概述 20 A.2 类型1图像的处理示例 20 A.3 类型2图像的处理示例 22 A.4 类型3图像的处理示例 25 附录B（资料性）本方法的两个主要应用 30 B,1 概述 30 B.2 应用1：层厚的测量 30 B.3 应用2：图像放大倍数的校准

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