(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202222611611.2 (22)申请日 2022.09.29 (73)专利权人 天津电力机车有限公司 地址 300450 天津市滨 海新区临港经济区 渤海二十六路27 78号 (72)发明人 李硕　蒋欣　张译元　 (74)专利代理 机构 北京海虹嘉诚知识产权代理 有限公司 1 1129 专利代理师 巩固 (51)Int.Cl. B24B 41/06(2012.01) (54)实用新型名称 一种磨样辅助装置 (57)摘要 本实用新型涉及一种磨样 辅助装置， 包括用 于吸附试样的吸附组件， 吸附组件 具有平整的吸 附面， 当吸附组件吸附试样时， 吸附面与试样表 面贴合。 进行磨抛处理时， 工作人员拿持吸附有 试样的吸附组件， 通过吸附组件将试样按压在磨 盘或抛光盘上进行处理， 使用时更安全， 工作人 员不易受伤。 此外， 由于吸附面平整， 且能够与试 样的表面贴合， 增大了试样与吸附组件之间的接 触面积， 吸附组件通过吸附面将试样按压在磨盘 上时， 试样与磨盘或抛光盘的接触面各处受到的 压力更加均匀， 可以提高试样受到磨抛处理的部 位粗糙度的一 致性。 权利要求书1页 说明书3页 附图2页 CN 218082176 U 2022.12.20 CN 218082176 U 1.一种磨样辅助装置， 其特征在于， 包括用于吸附试样的吸附组件， 所述吸附组件具有 平整的吸附面， 当所述吸附组件吸附试样时， 所述吸附面与试样表面贴合。 2.如权利要求1所述的一种磨样辅助装置， 其特征在于， 所述吸附组件包括磁力表座， 所述磁力表座具有用于控制自身吸力的旋钮。 3.如权利要求1所述的一种磨样辅助装置， 其特征在于， 所述吸附组件包括电永磁吸 盘， 所述电永磁吸盘外 接有电源。 4.如权利要求1所述的一种磨样辅助装置， 其特征在于， 所述吸附组件包括真空吸盘， 所述真空吸盘外 接有真空发生器。 5.如权利要求1所述的一种磨样辅助装置， 其特征在于， 所述吸附组件连接有手柄， 所 述手柄侧面设有橡胶 层。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 218082176 U 2一种磨样辅助装 置 技术领域 [0001]本实用新型 涉及磨抛工装的领域， 尤其涉及一种磨样辅助装置 。 背景技术 [0002]使用半自动式金相磨样机对试件进行磨抛处理时， 首先使用磨盘对金相试样进行 初步打磨， 再使用抛光盘对试样进行抛光处理， 使磨抛处理后的成样表面粗糙度达到实验 要求。 在进行打磨时， 需要工作人员拿持试样， 并将试样按压在磨盘表面进行打磨， 但是在 磨抛的过程中存在以下问题： [0003]1、 对试样进行磨抛处理时， 工作人员一般利用指尖按压试样， 对试样施加压力， 这 使得试样与磨盘、 抛光盘的接触面各处受力不均匀， 导致打磨后的成样表面各处粗糙度不 一致。 [0004]2、 在进行长时间磨抛处理时， 试样会不断升温， 使得工作人员难以持续按压试样， 不便于保持稳定地按压试样。 同时工作人员手部出汗， 可能会使试样相对于工作人员的指 尖偏移， 而影响成样表面 粗糙度的一 致性。 [0005]3、 在对薄试样进行磨抛处理时， 不便于工作人员拿持试样， 需要工作人员在磨处 理过程中握住试样或捏持试样， 但是这种拿持方式容易导致工作人员接触磨盘、 抛光盘而 受伤。 实用新型内容 [0006]针对上述现有技术的缺点， 本实用新型的目的是提供一种磨样辅助装置， 以解决 现有技术中的一个或多个问题。 [0007]为实现上述目的， 本实用新型的技 术方案如下： [0008]一种磨样辅助装置， 包括用于吸附试样的吸附组件， 所述吸附组件具有平整的吸 附面， 当所述吸附组件吸附试样时， 所述吸附面与试样表面贴合。 [0009]优选的， 所述吸附组件包括磁力表座， 所述磁力表座具有用于控制自身吸力的旋 钮。 [0010]优选的， 所述吸附组件 包括电永磁吸盘， 所述电永磁吸盘外 接有电源。 [0011]优选的， 所述吸附组件 包括真空吸盘， 所述真空吸盘外 接有真空发生器。 [0012]优选的， 所述吸附组件连接有手柄， 所述手柄侧面设有橡胶 层。 [0013]本实用新型技 术方案的有益 技术效果： [0014](一)进行磨抛处理时， 工作人员拿持吸附有试样的吸附组件， 通过吸附组件将试 样按压在磨盘或抛光盘上进行处理， 使用时更安全， 工作人员不易受伤且以吸 附的方式拿 持试样， 可以便于吸附薄的试样材料。 此外， 工作人员与试样不直接接触， 试样升温时不会 影响工作人员， 保证工作人员可以通过吸附组件持续稳定地按压试样 。 由于吸附面平整， 且 能够与试样的表面贴合， 增大了试样与吸 附组件之间的接触面积， 吸 附组件通过吸 附面将 试样按压在磨盘上时， 试样与磨盘或抛光盘的接触面各处受到的压力更加均匀， 可以提高说　明　书 1/3 页 3 CN 218082176 U 3