(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 20212345 6145.7 (22)申请日 2021.12.31 (73)专利权人 温州市山福工贸有限公司 地址 325000 浙江省温州市鹿城区山福镇 沙头工业区纬二路 (72)发明人 余斌　林建通　李聪聪　 (51)Int.Cl. B24B 29/02(2006.01) B24B 27/00(2006.01) B24B 41/02(2006.01) (54)实用新型名称 两工位湿式抛光自动机 (57)摘要 本实用新型公开了一种两工位湿式抛光自 动机， 包括机架、 设置于机架的驱动电机以及设 置于驱动电机输出轴的抛光轮， 位于所述抛光轮 的前方形成一操作区， 位于所述操作区的一侧设 有放置平台， 所述机架上设有驱动放置平台的升 降组件， 所述放置平台沿背向机架方向延伸形成 一长条形， 所述放置平台上分布设置有若干凸出 于放置面且沿放置平台长度方向往复滚动的辊 轴， 所述放置平台上设有用于限制辊轴上产品运 动的锁定构件。 本实用新型具有以下优点和效 果： 本实用新型能使工作人员对工件实现便捷拿 取， 以此来保证工作人员的身体健康、 提升产品 的加工效率。 权利要求书1页 说明书3页 附图6页 CN 216542642 U 2022.05.17 CN 216542642 U 1.一种两工位湿式抛光自动 机， 包括机架(1)、 设置于机架(1)的驱动电机(2)以及设置 于驱动电机(2)输出轴的抛光轮(3)， 位于所述抛光轮(3)的前方形成一操作区(4)， 其特征 在于： 位于所述操作区(4)的一侧设有放置平台(5)， 所述机架(1)上设有驱动放置平台(5) 的升降组件(6)， 所述放置平台(5)沿背向机架(1)方向延伸形成一长条形， 所述放置平台 (5)上分布设置有若干凸出于放置面且沿放置平 台(5)长度方向往复滚动的辊轴(7)， 所述 放置平台(5)上设有用于限制辊轴(7)上产品运动的锁定构件(8)。 2.根据权利要求1所述的两工位湿式抛光自动机， 其特征在于： 所述锁定构件(8)包括 设置于放置平台(5)且 连通放置平台(5)放置面的滑槽(81)、 滑动设置于滑槽(81)内的止动 板(82)以及驱动止动板(82)升降的驱动组件， 止动板(82)高于辊轴(7)来限制产品运动。 3.根据权利要求2所述的两工位湿式抛光自动机， 其特征在于： 所述驱动组件包括转动 设置于放置平台(5)且位于止动板(82)正下方的偏心轮(83)以及驱动偏心轮(83)转动的手 柄(84)， 所述放置平台(5)上设有两根配合手柄(84)的定位柱(9)， 所述手柄(84)在两根定 位柱(9)之间转动， 当所述手柄(84)相抵于其中一根定位柱(9)时， 所述止动板(82)的高度 低于辊轴(7)的最高位置， 当所述手柄(84)相抵于另一根定位柱(9)时， 所述止动板(82)的 高度高于辊轴(7)的最高位置 。 4.根据权利要求1所述的两工位湿式抛光自动机， 其特征在于： 所述的放置平台(5)滑 动设置于机架(1)， 所述升降组件(6)包括转动设置于机架(1)的螺杆(61)以及驱动螺杆 (61)转动的第一电机(62)， 所述螺杆(61)与放置平台(5)螺纹连接 。 5.根据权利要求1所述的两工位湿式抛光自动机， 其特征在于： 包括照 明灯(10)， 所述 机架(1)上设有滑孔(11)， 所述照明灯(10)上连接有与滑孔(11)滑动配合的高度调节杆 (12)， 所述高度调节杆(12)与滑孔(1 1)无级锁定配合。 6.根据权利要求5所述的两工位湿式抛光自动机， 其特征在于： 包括固定设置于滑孔 (11)壁的弹性锁定块(13)以及形成于高度调节杆(12)外周壁对应于弹性锁定块(13)位置 的滑道(14)， 所述滑道(14)与弹性锁定块(13)滑动配合且滑道(14)沿高度调节杆(12)的轴 线延伸设置 。 7.根据权利要求1所述的两工位湿式抛光自动机， 其特征在于： 所述机架(1)侧壁分布 设置有若干挂钩(15)。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 216542642 U 2两工位湿式抛光自动机 技术领域 [0001]本实用新型 涉及一种锁具加工设备， 特别涉及一种两 工位湿式抛光自动机 。 背景技术 [0002]锁具包括执手、 面板、 锁芯机构与锁止机构。 其中， 执手与面板的生产加工流程包 括： 压铸、 冲压、 修边切边、 打沙、 抛光、 电镀等加工流程。 其中的抛光流程是对执手与面板表 面进行抛光打磨， 通过对其表面进行打磨使其表面纹路清晰、 光洁。 [0003]现有的抛光自动机包括机座、 设置于机座的驱动电机以及设置于驱动电机输出轴 的抛光轮。 工作人员在 对工件进 行抛光作业时， 受加工姿势的影响， 使 得工作人员与厂房地 面具有一定的高度差。 而待加工的工件通常是放置于地面靠近工作人员的位置。 当工作人 员在拿取待加工的工件时只能弯腰才能拿到放置于地面上的待加工工件， 加之现有工作人 员的工作时长较长， 常年往复就容易对工作人员的腰部造成损伤， 从而影响工作人员的身 体健康。 实用新型内容 [0004]本实用新型的目的是提供一种两工位湿式抛光自动机， 该两工位湿式抛光自动机 能使工作人员对工件实现便捷拿取， 以此来保证工作人员的身体健康、 提升产品的加工效 率。 [0005]本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的： 一种两工位湿式抛 光自动机， 包括机架、 设置于机架的驱动电机以及设置于驱动电机输出轴的抛光轮， 位于所 述抛光轮的前方形成一操作区， 位于所述操作区的一侧设有放置平台， 所述机架上设有驱 动放置平台的升降组件， 所述放置平台沿背向机架方向延伸形成一长条形， 所述放置平台 上分布设置有若干凸出于放置面且沿放置平台长度方向往复滚动的辊轴， 所述放置平台上 设有用于限制辊轴上产品运动的锁定构件。 [0006]通过采用上述技术方案， 待加工 的工件整体排列放置于收集盒内， 将收集盒整齐 的排列堆叠在放置平台的辊轴 上方， 并通过锁定构件来限制收集盒滑动， 确保收集盒的稳 定放置。 当位于高层的收集 盒内的工件加工完成后， 通过升降组件来调节放置平台的高度， 去补偿工作人员拿取工件时形成的高度差， 使工作人员在拿取收集盒内的工件时无需弯 腰， 以此来实现工作人员的便捷拿取， 保证工作人员的身体健康、 提升产品的加工效率。 当 靠近于机架的收集盒内的工件加工完成后， 对锁定构件进行解锁， 工作人员将远离机架的 收集盒朝向机架推动， 靠近于机架收集盒内的工件更方便于工作人员的拿取， 调整完成后 通过锁定构件 对收集盒进行锁定， 使操作更加简便 。 [0007]进一步设置为： 所述锁定构件包括设置于放置平台且连通放置平台放置面的滑 槽、 滑动设置于滑槽内的止动板以及驱动止动板升降的驱动组件， 止动板高于辊轴来限制 产品运动。 [0008]通过采用上述技术方案， 收集盒放置于放置平台的辊轴上方， 通过辊轴与收集盒说　明　书 1/3 页 3 CN 216542642 U 3