(19)中华 人民共和国 国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202122611410.8 (22)申请日 2021.10.28 (73)专利权人 中国人民解 放军海军军医大学第 一附属医院 地址 200433 上海市杨 浦区长海路168号长 海医院 (72)发明人 肖仕初　帅超群　季超　郑勇军　 纪世召　王雨祥　周紫萱　高豪杰　 陈甜胜　马晓菁　吴琼　 (74)专利代理 机构 中国贸促会专利商标事务所 有限公司 1 1038 代理人 张丰豪 (51)Int.Cl. A61F 13/00(2006.01) A61M 1/00(2006.01)(ESM)同样的发明创造已同日申请发明 专利 (54)实用新型名称 创面处理敷料和创面处 理装置 (57)摘要 本公开涉及一种创面处理敷料和创面处理 装置。 所述创面处理敷料包括基体和设置在所述 基体的第一侧的多个表面结构， 每个所述表面结 构构造为从所述基体的第一侧的表面垂直向外 延伸的突起部； 其中， 所述多个表面结构以预定 的阵列布置且所述多个表面结构彼此间隔开预 定的距离， 以在相邻的表面结构之间形成流体通 道。 借助于合理地设计并布置于创面处理敷料表 面的表面结构， 可以改善 现有透明敷料的创面负 压分布、 提高引流效率、 减少创面的渗液聚集， 提 升创面的可视度， 大大提高临床医生对创面情况 的了解， 从而更有利于创面肉芽组织的生长并减 小患者在创面后期愈合过程中的生理和经济负 担。 权利要求书2页 说明书7页 附图8页 CN 216222004 U 2022.04.08 CN 216222004 U 1.一种创面处理敷料， 其特征在于， 所述创面处理敷料包括基体和设置在所述基体的 第一侧的多个表面结构， 每个所述表面结构构 造为从所述基体的第一侧的表面垂直向外延 伸的突起部； 其中， 所述多个表面结构以预定的阵列布置且所述多个表面结构彼此间隔开 预定的距离， 以在相 邻的表面结构之间形成流体通道； 并且其中， 所述多个表 面结构彼此间 隔开的距离在0.2m m至2mm之间。 2.根据权利要求1所述的创面处理敷料， 其特征在于， 每个所述表面结构的高度在 0.5mm至2mm之间。 3.根据权利要求1所述的创面处理敷料， 其特征在于， 所述多个表面结构与 所述基体构 造成一体结构。 4.根据权利要求1所述的创面处理敷料， 其特征在于， 所述多个表面结构与 所述基体构 造成单独的结构。 5.根据权利要求1所述的创面处理敷料， 其特征在于， 每个所述表面结构构造成半刚性 的， 使得所述表面结构在预定的负压操作条件下能够维持其初始形状。 6.根据权利要求1所述的创面处理敷料， 其特征在于， 每个所述表面结构被构造成上端 细、 下端粗的截头圆锥形。 7.根据权利要求6所述的创面处理敷料， 其特征在于， 截头圆锥形的所述表面结构的上 端的直径在0.2mm至1mm之间， 且截头圆锥形的所述表面结构的渐缩角度在0.1度至20度之 间。 8.根据权利要求1所述的创面处理敷料， 其特征在于， 每个所述表面结构由多个层构 成。 9.根据权利要求8所述的创面处理敷料， 其特征在于， 所述多个层呈正方形， 且所述多 个层的尺寸从靠近所述基体的位置至远离所述基体的位置逐渐减小， 使得每个所述表面结 构具有金字塔的形状。 10.根据权利要求1所述的创面处理敷料， 其特征在于， 所述创面处理敷料包括贯穿所 述基体的至少一个孔。 11.根据权利要求10所述的创面处理敷料， 其特征在于， 所述孔构造成选自由圆形、 正 方形、 长方形、 菱形、 五边形、 六边形、 椭圆形、 花 瓣形构成的组。 12.根据权利 要求10所述的创面处理敷料， 其特征在于， 所述孔的直径在0.5mm至2mm之 间。 13.根据权利要求1所述的创面处理敷料， 其特征在于， 所述创面处理敷料还包括设置 在所述基 体的与所述第一侧相反的第二侧的导 流柱。 14.根据权利要求13所述的创面处 理敷料， 其特 征在于， 所述 导流柱构造成花 瓣形。 15.根据权利要求13所述的创面处理敷料， 其特征在于， 密封膜被支撑在所述导流柱上 而实施密封 。 16.根据权利要求1所述的创面处理敷料， 其特征在于， 所述基体由透明硅胶或透明热 塑性聚氨酯弹性体橡胶形成。 17.根据权利要求1所述的创面处理敷料， 其特征在于， 所述基体的厚度在0.1mm至2mm 之间。 18.一种创面处理装置， 其特征在于， 所述创面处理装置包括根据权利要求1至17中的权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 216222004 U 2任意一项所述的创面处理敷料、 和与所述创面处理敷料流体联通的引流管， 所述引流管设 置在所述创面处 理敷料的与所述第一侧相对的第二侧上。 19.根据权利要求18所述的创面处理装置， 其特征在于， 所述引流管与 所述创面处理敷 料构造成一体结构。 20.根据权利要求18所述的创面处理装置， 其特征在于， 所述引流管与 所述创面处理敷 料构造成单独的结构。 21.根据权利要求20所述的创面处理装置， 其特征在于， 所述引流管与 所述创面处理敷 料直接连接 。 22.根据权利要求20所述的创面处理装置， 其特征在于， 所述引流管经由转接头或适配 器与所述创面处 理敷料连接。 23.根据权利要求18所述的创面处理装置， 其特征在于， 所述创面处理装置还包括与 所 述创面处理敷料流体联通的冲洗管， 所述冲洗管设置在所述创面处理敷料的所述第二侧 上。 24.根据权利要求23所述的创面处理装置， 其特征在于， 所述冲洗管与 所述创面处理敷 料构造成一体结构。 25.根据权利要求23所述的创面处理装置， 其特征在于， 所述冲洗管与 所述创面处理敷 料构造成单独的结构。 26.根据权利要求23所述的创面处理装置， 其特征在于， 所述冲洗管与 所述创面处理敷 料直接连接 。 27.根据权利要求23所述的创面处理装置， 其特征在于， 所述冲洗管经由转接头或适配 器与所述创面处 理敷料连接。 28.根据权利要求23所述的创面处理装置， 其特征在于， 所述创面处理装置还包括密封 膜， 所述密封膜用于将所述创面处 理敷料密封在创面上。 29.根据权利 要求28所述的创面处理装置， 其特征在于， 所述密封膜的厚度在0.01mm至 1mm之间。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 216222004 U 3