(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210714945.4 (22)申请日 2022.06.22 (71)申请人 江苏科沛达半导体科技有限公司 地址 221000 江苏省徐州市邳州经济开发 区环城北路北侧、 红旗路东侧 (72)发明人 李述周　朱春　 (74)专利代理 机构 北京和联顺知识产权代理有 限公司 1 1621 专利代理师 徐冬冬 (51)Int.Cl. B08B 3/02(2006.01) B08B 3/14(2006.01) H01L 21/67(2006.01) B01D 36/02(2006.01) (54)发明名称 一种自循环式环保型半导体晶片清洗装置 (57)摘要 本发明公开了一种自循环式环保型半导体 晶片清洗装置， 包括清洗机座、 多角度清洗机构、 自循环过滤机构， 多角度清洗机构设于清洗机座 的一侧， 多角度清洗机构包括限位输送架， 限位 输送架内设有输送滤带， 限位输送架 远离清洗机 座的一侧连接有清洗隔离罩， 清洗隔离罩内设有 多组导流管， 多组导流管靠近输送滤带的一侧连 接有多组均匀分布的清洗喷嘴。 本发 明通过对半 导体晶片清洗装置设置相应的自循环过滤机构， 可对清洗 液体中含有的杂质进行过滤处理， 避免 了半导体晶片在清洗过程中受清洗液体中杂质 的影响出现划伤的情况， 显著提高了对半导体晶 片进行清洗的效果， 提高了半导体晶片清洗装置 的使用环保性。 权利要求书1页 说明书6页 附图4页 CN 115090591 A 2022.09.23 CN 115090591 A 1.一种自循环式环保型半导体晶片清洗装置， 其特 征在于， 包括： 清洗机座(1)； 多角度清洗机构(2)， 设于所述清洗机座(1)的一侧， 所述多角度清洗机构(2)包括限位 输送架(201)， 所述限位输送架(201)内设有输送滤带(202)， 所述限位输送架(201)远离清 洗机座(1)的一侧连接有清洗隔离罩(203)， 所述清洗隔离罩(203)内设有多组导流管 (204)， 多组所述导流管(204)靠近输送滤带(202)的一侧连接有多组均匀分布的清洗喷嘴 (205)； 自循环过滤机构(3)， 设于所述清洗机座(1)内， 所述自循环过滤机构(3)包括自循环回 流箱(301)， 所述自循环回流箱(301)的两侧均设有过滤箱(302)， 所述过滤箱(302)靠近输 送滤带(202)的一侧连接有一对汇流板(3 03)。 2.根据权利要求1所述的一种自循环式环保型半导体晶片清洗装置， 其特征在于， 所述 限位输送架(201)的两侧均设有物体导流件(206)， 所述物体导流件(206)与输送滤带(202) 相匹配。 3.根据权利要求1所述的一种自循环式环保型半导体晶片清洗装置， 其特征在于， 所述 输送滤带(202)内连接有一对对称分布的张紧辊(207)， 一对所述张紧辊(207)内均连接有 转轴(208)， 所述 转轴(208)位于限位输送 架(201)外的一端连接有驱动电动机(209)。 4.根据权利要求1所述的一种自循环式环保型半导体晶片清洗装置， 其特征在于， 所述 清洗隔离罩(203)内连接有固定架(210)， 所述固定架(210)内连接有导通输送管(211)， 所 述导通输送管(21 1)与导流管(204)之间连接有连通管(212)。 5.根据权利要求4所述的一种自循环式环保型半导体晶片清洗装置， 其特征在于， 所述 导通输送管(211)远离导流管(204)的一侧连接有液体输送管(213)， 所述液体输送管(213) 位于清洗隔离罩(20 3)外的一端连接有增压水泵(214)。 6.根据权利要求5所述的一种自循环式环保型半导体晶片清洗装置， 其特征在于， 所述 增压水泵(214)远离液体输送管(213)的一侧连接有 连接管道(215)， 所述连接管道(215)与 自循环回流箱(3 01)相连通。 7.根据权利要求6所述的一种自循环式环保型半导体晶片清洗装置， 其特征在于， 所述 液体输送管(213)靠近限位输送架(201)的一侧连接有分流管(216)， 所述分流管(216)位于 限位输送 架(201)内的一端连接有清洁输送管(217)。 8.根据权利要求7所述的一种自循环式环保型半导体晶片清洗装置， 其特征在于， 所述 清洁输送管(217)靠近输送滤带(202)的一侧设有多组均匀分布的辅助清洗喷嘴(218)， 多 组所述辅助清洗喷嘴(218)设于输送滤带(202)内， 多组所述辅助清洗喷嘴(218)与清洁输 送管(217)之间均连接有输送管件(219)。 9.根据权利要求1所述的一种自循环式环保型半导体晶片清洗装置， 其特征在于， 所述 自循环回流箱(301)与过滤箱(302)之间连接有引流管(304)， 一对所述汇流板(303)内均开 凿有导流槽(305)。 10.根据权利要求1所述的一种自循环式环保型半导体晶片清洗装置， 其特征在于， 所 述汇流板(303)内设有多组杂质滤网(306)， 多组所述杂质滤网(306)之间均填充有过滤填 料层(307)。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 115090591 A 2一种自循环式环保型半导体晶片清洗装 置 技术领域 [0001]本发明属于半导体晶片加工技术领域， 具体涉及 一种自循环式环 保型半导体晶片 清洗装置 。 背景技术 [0002]半导体晶片是指一类用来制作硅半导体电路所用的硅晶片， 半导体晶片的原始材 料是硅， 将 高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种， 然后慢慢拉出， 形成圆柱形的单晶硅， 硅晶棒在经 过研磨， 抛光， 切片后， 形成硅半导体晶片。 [0003]半导体晶片清洗是半导体晶片加工过程中常用到的工艺流程， 通过对半导体晶片 进行清洗的方式对半导体晶片起到清洁的作用， 目前常见的半导体晶片主要采用浸泡清洁 的方式进行清洗 。 [0004]现有的半导体晶片清洗装置由于缺乏相应的自循环过滤机构， 不能对清洗液体中 含有的杂质进 行过滤处理， 使得半导体晶片在清洗过程中容易受清洗液体中杂质的影响出 现划伤的情况， 降低了对半导体晶片进行清洗的效果， 降低了半导体晶片清洗装置的使用 环保性。 [0005]因此， 针对上述 技术问题， 有必要提供一种自循环式环保型半导体晶片清洗装置 。 发明内容 [0006]本发明的目的在于提供一种自循环式环 保型半导体晶片清洗装置， 以解决上述半 导体晶片清洗装置使用效果差的问题。 [0007]为了实现上述目的， 本发明一实施例提供的技 术方案如下： [0008]一种自循环式环保型半导体 晶片清洗装置， 包括： 清洗机座、 多角度清洗机构、 自 循环过滤机构； [0009]所述多角度清洗机构设于所述清洗机座的一侧， 所述多角度清洗机构包括限位输 送架， 所述限位输送架内设有输送滤带， 所述限位输送架远离清洗机座的一侧连接有清洗 隔离罩， 所述清洗隔离罩内设有多组导流管， 多组所述导流管靠近输送滤带 的一侧连接有 多组均匀分布的清洗喷 嘴； [0010]所述自循环过滤机构设于所述清洗机座内， 所述自循环过滤机构包括自循环回流 箱， 所述自循环回流箱的两侧均设有过滤箱， 所述过滤箱靠近输送滤带 的一侧连接有一对 汇流板。 [0011]进一步地， 所述限位输送架的两侧均设有物体导流件， 所述物体导流件与输送滤 带相匹配， 便于通过物体导流件对输送滤带上输送的半导体晶片起到导向输送的作用， 提 高了输送滤带对半导体晶片进行清洗 输送的稳定性。 [0012]进一步地， 所述输送滤带内连接有一对对称分布的张紧辊， 通过一对张紧辊对输 送滤带起到张紧支撑的作用， 同时， 通过对张紧辊进行旋转驱动的方式对输送滤带起到移 动控制的作用， 一对所述张紧辊内均连接有转轴， 转轴对张紧辊起到支撑限位与旋转驱动说　明　书 1/6 页 3 CN 115090591 A 3