(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210840592.2 (22)申请日 2022.07.18 (71)申请人 江苏润阳世纪光伏科技有限公司 地址 224000 江苏省盐城市 盐城经济技 术 开发区漓江路8 8号 (72)发明人 张文龙　邢显邦　杨灼坚　胡传红　 陶龙忠　 (74)专利代理 机构 常州佰业腾飞专利代理事务 所(普通合伙) 32231 专利代理师 毛姗 (51)Int.Cl. C30B 31/14(2006.01) B08B 3/02(2006.01) B08B 3/04(2006.01) B08B 3/08(2006.01)C30B 29/06(2006.01) H01L 31/18(2006.01) (54)发明名称 一种硅片扩散用石英舟的清洗与饱和工艺 (57)摘要 本发明公开了一种硅片扩散用石英舟的清 洗与饱和工艺； 包括： S1、 用纯水冲洗石英舟卡槽 内的硅渣； S2、 用纯水漂洗石英舟； S3、 用氢氟酸 和盐酸的混合液浸泡石英舟； S4、 用纯水漂洗石 英舟， 漂洗至石英舟表面吸附的水呈中性； 吹干 残留水渍； S5、 将饱和炉管升温， 用大流量氮气吹 扫饱和炉管； S6、 将石英舟送入到炉管内； 升温 并 通氮气， 维持； S7、 将炉管抽至低压状态并维持， 通入氮气吹扫炉管； S8、 向炉管中通入氮气和氧 气氧化； S9、 通氮气、 氧气和小氮饱和处理； S10、 重复步骤S8和S9； S11、 通入氮气和氧气冷却石英 舟； S12、 将炉管继续抽真空并维持， 通氮气吹扫 并升压， 升压后维持； S13、 通氮气， 将炉管压力恢 复到常压； 打开炉门， 取 出饱和好的石英舟。 权利要求书2页 说明书5页 CN 115216848 A 2022.10.21 CN 115216848 A 1.一种硅片扩散用石英舟的清洗与饱和工艺， 其特 征在于， 该工艺包括如下步骤： S1、 去除石英舟卡槽内硅渣： 使用纯水对所述石英舟卡槽内的硅渣进行高压冲洗， 去除 卡槽内可 见的硅渣； S2、 一次漂洗： 使用纯 水对所述石英舟进行漂洗， 去除石英舟内漂浮的硅粉； S3、 酸洗： 使用 氢氟酸和盐酸的混合液对所述石英舟进行浸泡， 去除石英舟表面的残 留； S4、 二次漂洗： 使用纯水对所述石英舟进行漂洗， 漂洗至所述石英舟表面吸附的水呈中 性； 漂洗后吹干表面残留水渍； S5、 饱和炉管处理： 将饱和炉管升温至预设温度， 并使用大流量氮气对饱和炉管进行吹 扫； S6、 进饱和炉管： 将所述石英舟送入到炉管内， 关闭炉门； 然后升温并通氮气， 维持； S7、 一次抽真空： 将炉管抽至低压状态并维持， 接着通入氮气吹扫炉管； S8、 氧化： 向炉管中通入氮气和氧气进行 氧化； S9、 一次饱和： 通氮气、 氧气和小氮进行饱和处 理； S10、 二次饱和： 重复步骤S 8和S9， 进行二次饱和； S11、 后处理： 通入氮气和氧气冷却石英舟； S12、 二次抽真空： 将炉管继续抽真空并维持， 然后通氮气吹扫并升 压， 升压后维持； S13、 回压、 出舟： 继续通氮气， 将炉管压力 恢复到常压； 然后打开炉门， 取出饱和好的石 英舟。 2.根据权利要求1所述的一种硅片扩散用石英舟的清洗与饱和工艺， 其特征在于， 步骤 S3、 酸洗： 使用氢氟酸和盐酸的混合液对所述石英舟进行浸泡3 ‑5小时， 去除石英舟表面的 残留； 其中： 混合液中氢氟酸和盐酸的总质量分数为3 ‑8wt％。 3.根据权利要求2所述的一种硅片扩散用石英舟的清洗与饱和工艺， 其特征在于， 所述 氢氟酸与盐酸的质量比为3： 1。 4.根据权利要求1所述的一种硅片扩散用石英舟的清洗与饱和工艺， 其特征在于， 步骤 S4、 二次漂洗： 使用纯水对所述石英舟进行漂洗3 ‑5次， 每次漂洗15 ‑30分钟， 漂洗至所述石 英舟表面吸附的水 呈中性； 漂洗后用气枪吹干石英舟表面残留水渍 。 5.根据权利要求1所述的一种硅片扩散用石英舟的清洗与饱和工艺， 其特征在于， 步骤 S6、 进饱和炉管： 将所述石英舟送入到炉管内， 关闭炉门； 然后升温至820 ‑880℃， 在升温的 同时通入5000 ‑8000sccm流量的氮气， 升温完成后维持200 ‑400秒； 其中： 升温过程在800 ‑ 1000秒完成。 6.根据权利要求1所述的一种硅片扩散用石英舟的清洗与饱和工艺， 其特征在于， 步骤 S7、 一次抽真空： 将炉管抽至低压状态并维持150 ‑250秒， 然后再通入8000 ‑10000sccm流量 的氮气吹扫炉管10 0‑200秒。 7.根据权利要求1所述的一种硅片扩散用石英舟的清洗与饱和工艺， 其特征在于， 步骤 S8、 氧化： 向炉 管中通入3000 ‑8000sccm流量的氮气和1000 ‑3000sccm流量的氧气进行氧化 300‑500秒。 8.根据权利要求1所述的一种硅片扩散用石英舟的清洗与饱和工艺， 其特征在于， 步骤 S9、 一次饱和： 通入1000 ‑2000sccm流量的氮气、 1500 ‑3000sccm流量的氧气和1000 ‑权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115216848 A 21500sccm流量的小氮进行饱和处 理1200‑1500秒。 9.根据权利要求1所述的一种硅片扩散用石英舟的清洗与饱和工艺， 其特征在于， 步骤 S11、 后处理： 通入1500 ‑3000sccm流量的氮气和2000 ‑5000sccm流量的氧气冷却石英舟至 600‑700℃。 10.根据权利要求1所述的一种硅片扩散用石英舟的清洗与饱和工艺， 其特征在于， 步 骤S12、 二 次抽真空： 将炉 管抽真空至50 ‑60mbar并维持150 ‑300秒， 然后通8000 ‑10000sccm 流量的氮气吹扫并升 压至80‑120mbar， 升 压后维持10 0‑200秒。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115216848 A 3