(19)国家知识产权局 (12)发明 专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 20221073795 6.4 (22)申请日 2022.06.28 (65)同一申请的已公布的文献号 申请公布号 CN 114823431 A (43)申请公布日 2022.07.29 (73)专利权人 江苏芯梦半导体设备有限公司 地址 215000 江苏省苏州市吴中经济开发 区南湖路6 6号8幢101室 (72)发明人 廖周芳　蒋超伟　邵树宝　 (74)专利代理 机构 苏州创元专利商标事务所有 限公司 3210 3 专利代理师 黄静依 (51)Int.Cl. H01L 21/67(2006.01) B08B 3/02(2006.01)B08B 3/08(2006.01) (56)对比文件 US 2015/0144164 A1,2015.0 5.28 TW 200603895 A,20 06.02.01 JP 2008108829 A,2008.05.08 审查员 孙汝杰 (54)发明名称 一种用于清洗晶圆的喷射装置 (57)摘要 本发明公开了一种用于清洗晶圆的喷射装 置， 包括喷嘴架及喷嘴主体。 喷嘴主体具有分别 沿上下方向延伸的第一流体通道与第二流体通 道， 第二流体通道环设于第一流体通道的周部， 两者之间通过环形壁间隔开。 喷嘴主体还具有位 于下端部的第一出口与第二出口， 第一出口与第 一流体通道相连通， 第二出口与第二流体通道相 连通， 第二出口环设于第一出口的周部。 喷射装 置还包括一端部与第一流体通道相连通的第一 流体管、 一端部与第二流体通道相连通第二流体 管、 一端部与第一流体通道和/或第二流体通道 相连通的第三流体管。 该喷射装置集成了气液清 洗功能， 同时具备喷射液体、 气体或气液混合体 等多种清洗模式， 有助于缩短清洗时间， 提升工 业产能。 权利要求书2页 说明书7页 附图7页 CN 114823431 B 2022.10.18 CN 114823431 B 1.一种用于清洗晶圆的喷射装置， 所述喷射装置包括喷嘴架及固设于所述喷嘴架上的 喷嘴主体， 其特 征在于： 所述喷嘴主体具有第 一流体通道与第 二流体通道， 所述第 一流体通道与所述第 二流体 通道分别沿上下方向延伸， 且所述第二流体通道环设于所述第一流体通道的周部， 所述第 一流体通道与所述第二 流体通道之间通过环形壁间隔开； 所述喷嘴主体具有第一出口与第二出口， 所述第一出口与所述第一流体通道相连通， 所述第二出口与所述第二流体通道相连通， 所述第一出口与所述第二出口均位于所述喷嘴 主体的下端部， 所述第二出口环设于所述第一出口 的周部； 所述喷射装置还 包括： 第一流体管， 所述第一 流体管与所述第一 流体通道相连通； 第二流体管， 所述第二 流体管与所述第二 流体通道相连通； 第三流体管， 所述第三流体管与所述第一流体通道相连通， 或， 所述第 三流体管与所述 第一流体通道和所述第二 流体通道均连通； 所述喷嘴主体具有第一入口、 第二入口及第三入口， 其中： 所述第一入口位于所述喷嘴主体的上端部， 所述第一入口与所述第一流体通道相连 通； 所述第二入口位于所述喷嘴主体周向上的一侧部， 所述第 二入口与 所述第二流体通道 相连通； 所述第三入口位于所述喷嘴主体周向上的另一侧部， 且所述第 三入口与所述第 二入口 分设于所述喷 嘴主体的宽度方向的相异两侧， 所述第三入口与所述第一 流体通道相连通， 所述喷嘴主体具有过渡腔， 所述过渡腔环设于所述第一流体通道的周部， 所述第三入 口与所述过渡腔相连通， 所述过渡腔与所述第一流体通道相连通， 所述过渡腔与所述第二 流体通道之间设有隔板 。 2.根据权利要求1所述的用于清洗晶圆的喷射装置， 其特征在于： 所述第 一流体管用于 传输水， 所述第二 流体管用于传输水， 所述第三 流体管用于传输氮气。 3.根据权利要求1所述的用于清洗晶圆的喷射装置， 其特征在于： 沿所述喷嘴主体的径 向上， 所述第二出口自上而下 逐渐向外倾 斜延伸。 4.根据权利要求3所述的用于清洗晶圆的喷射装置， 其特征在于： 沿所述喷嘴主体的径 向上， 所述第二出 口的内侧 壁位于第一虚拟圆锥面内， 所述第二出 口的外侧 壁位于第二虚 拟圆锥面内， 所述第一虚拟圆锥面的轴心线与所述第二虚拟圆锥面的轴心线共线延伸。 5.根据权利要求1所述的用于清洗晶圆的喷射装置， 其特征在于： 所述第 一出口的轴心 线与所述第二出口 的轴心线共线延伸。 6.根据权利要求1所述的用于清洗晶圆的喷射装置， 其特征在于： 所述第 二出口位于所 述第一出口 的上方。 7.根据权利要求1所述的用于清洗晶圆的喷射装置， 其特征在于： 所述过渡腔与所述第 二流体通道之间通过 所述隔板隔开。 8.根据权利要求1所述的用于清洗晶圆的喷射装置， 其特征在于： 所述隔板上开设有分 配孔， 所述分配孔中设有压力传感器， 所述压力传感器用于控制所述过渡腔中的流体进入 所述第二 流体通道中的流 量。权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 114823431 B 29.根据权利要求1所述的用于清洗晶圆的喷射装置， 其特征在于： 所述喷射装置还包括 第四流体管， 所述喷嘴主体具有第二入口与第四入口， 所述第二入口与所述第四入口分设 于所述喷嘴主体的宽度方向的相异两侧部， 所述第二流体管通过所述第二入口与所述第二 流体通道相连通， 所述第四流体管通过 所述第四入口与所述第二 流体通道相连通。 10.根据权利要求1至9任一项所述的用于清洗晶圆的喷射装置， 其特征在于： 所述喷嘴 架包括立架与横架， 所述立架沿上下方向延伸， 所述横架沿水平方向延伸， 所述横架的一端 部固设于所述立架上， 所述喷嘴主体固设于所述横架的另一端部上， 所述第二流体管与所 述第三流体管分设于所述横架的宽度方向的相异两侧， 所述第一流体管位于所述横架的上 方。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 114823431 B 3