(19)国家知识产权局 (12)发明 专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 20221073793 3.3 (22)申请日 2022.06.28 (65)同一申请的已公布的文献号 申请公布号 CN 114823430 A (43)申请公布日 2022.07.29 (73)专利权人 江苏芯梦半导体设备有限公司 地址 215000 江苏省苏州市吴中经济开发 区南湖路6 6号8幢101室 (72)发明人 廖周芳　蒋超伟　邵树宝　 (74)专利代理 机构 苏州创元专利商标事务所有 限公司 3210 3 专利代理师 黄静依 (51)Int.Cl. H01L 21/67(2006.01) H01L 21/02(2006.01)B08B 3/08(2006.01) B08B 3/02(2006.01) 审查员 张志芳 (54)发明名称 一种用于晶圆清洗的设备及方法 (57)摘要 本发明公开了一种用于晶圆清洗的设备及 方法， 设备包括工作台、 设置在工作台上的载台 及清洗喷射装置， 清洗喷射装置包括喷嘴架、 固 设于喷嘴架上的喷嘴主体， 以及分别 与喷嘴主体 相连通的第一流体管、 第二流体管第三流体管。 其中， 喷嘴主体具有分别沿上下方向延伸的第一 流体通道与第二流体通道， 第二流体通道环设于 第一流体通道的周部， 第一流体通道下端部具有 第一出口， 第二流体通道下端部具有第二出口。 方法依次包括如下步骤： S1、 第一出口和/或第二 出口喷射水； S2、 第一出口喷射氮气与水的混合 流体， 第二出口喷射氮气或水； S3、 第一出口喷射 氮气。 本发 明优化了清洗喷射装置的结构及设备 整体的空间布局， 结构简单、 控制方便、 清洗效率 高。 权利要求书2页 说明书9页 附图12页 CN 114823430 B 2022.10.18 CN 114823430 B 1.一种用于晶圆清洗的设备， 包括工作台、 设置在所述工作台上的载台及清洗喷射装 置， 所述载台用于承载晶圆， 所述载台能够绕第一转动中心线相对旋转地设置在所述工作 台上， 所述第一 转动中心线沿上 下方向延伸， 其特 征在于， 所述清洗喷射装置包括： 喷嘴架， 所述喷嘴架能够绕第二转动中心线相对转动地设置在所述工作台上， 所述第 二转动中心线沿上 下方向延伸； 喷嘴主体， 所述喷嘴主体固设于所述喷嘴架上， 所述喷嘴主体具有分别沿上下方向延 伸的第一流体通道与第二流体通道， 所述第二流体通道环设于所述第一流体通道的周部， 且所述第一流体通道与所述第二流体通道之间通过环形壁间隔开； 所述喷嘴主体还具有第 一出口与第二出 口， 所述第一出 口与所述第一流体通道相连通， 所述第二出 口与所述第二 流体通道相连通， 所述第一出 口与所述第二出 口均位于所述喷嘴主体的下端部， 所述第二 出口环设于所述第一出口 的周部； 第一流体管， 所述第一 流体管与所述第一 流体通道相连通； 第二流体管， 所述第二 流体管与所述第二 流体通道相连通； 第三流体管， 所述第三流体管与所述第一流体通道相连通， 或， 所述第 三流体管与所述 第一流体通道和所述第二 流体通道均连通； 所述喷嘴主体具有： 第一入口， 所述第一入口位于所述喷嘴主体的上端部， 所述第一流体管通过所述第一 入口与所述第一 流体通道相连通； 第二入口， 所述第二入口位于所述喷嘴主体周向上的一侧部， 所述第二流体管通过所 述第二入口与所述第二 流体通道相连通； 第三入口， 所述第三入口位于所述喷嘴主体周向上的另一侧部， 且所述第三入口与所 述第二入口分设于所述喷嘴主体的宽度方向的相异两侧， 所述第三流体管通过所述第三入 口与所述第一 流体通道相连通， 所述喷嘴主体还具有过渡腔， 所述第三流体管通过所述第三入口与所述过渡腔相连 通， 所述过渡腔与所述第一流体通道相连通， 所述过渡腔与所述第二流体通道之间设有隔 板； 所述过渡腔与所述第二 流体通道之间通过 所述隔板隔开； 或， 所述隔板上开设有分配孔， 所述分配孔中设有压力传感器， 所述压力传感器用于控制 所述过渡腔中的流体进入所述第二 流体通道中的流 量。 2.根据权利要求1所述的用于晶圆清洗的设备， 其特征在于： 沿所述喷嘴主体的径向 上， 所述第二出口自上而下 逐渐向外倾 斜延伸。 3.根据权利要求1所述的用于晶圆清洗的设备， 其特征在于： 所述清洗喷射装置还包括 第四流体管， 所述第四流体管与所述第二流体通道相连通； 所述喷嘴主体具有第二入口与 第四入口， 所述第二入口与所述第四入口分设于所述喷嘴主体宽度方向的相异两侧部， 所 述第二流体管通过所述第二入口与所述第二流体通道相连通， 所述第四流体管通过所述第 四入口与所述第二 流体通道相连通。 4.根据权利要求1至3任一项所述的用于晶圆清洗的设备， 其特征在于： 所述设备还包 括药液喷射装置， 所述药液喷射装置能够绕第三转动中心线相对转动地设置在所述工作台 上， 所述第三转动中心线沿上下方向延伸， 所述药液喷射装置与所述清洗 喷射装置分设于权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 114823430 B 2所述载台的径向相异两侧。 5.一种采用权利要求1至4任一项所述的设备的用于晶圆清洗的方法， 其特征在于， 所 述方法依次包括如下步骤： S1、 所述第一出口和/或所述第二出口喷射水； S2、 所述第一出口喷射氮气与水的混合流体， 所述第 二出口喷射氮气或水， 并在所述混 合流体的周围形成流体罩； S3、 所述第一出口喷射氮气。 6.根据权利要求5所述的用于晶圆清洗的方法， 其特征在于： 在所述步骤S2中， 所述第 二出口喷射氮气， 所述流体罩为气罩； 所述第二出口中氮气的流量恒定， 所述第一出口中氮 气的流量可以调节。 7.根据权利要求5所述的用于晶圆清洗的方法， 其特征在于： 在所述步骤S1中， 所述第 一流体管和/或所述第二 流体管传输水； 在所述步骤S2中， 所述第一 流体管传输水， 所述第三 流体管传输氮气； 在所述步骤S3中， 所述第三 流体管传输氮气。 8.根据权利要求5所述的用于晶圆清洗的方法， 其特征在于： 在所述步骤S2中， 所述第 二流体管传输水， 所述第二出口喷射水， 所述 流体罩为水罩。 9.根据权利要求5所述的用于晶圆清洗的方法， 其特征在于： 所述清洗喷射装置还包括 第四流体管， 所述第四流体管与所述第二流体通道相连通； 在所述步骤S1之前， 还包括步骤 S0： 所述第四流体管传输药 液， 所述第二出口喷射所述药 液。 10.根据权利要求5所述的用于晶圆清洗的方法， 其特征在于： 所述喷嘴架绕所述第二 转动中心线旋转的过程中， 所述喷嘴主体具有位于所述载台的径向相异两侧的第一位置与 第二位置， 在所述步骤S1、 S2、 S3的每一步中， 所述喷嘴主体均在所述第一位置与所述第二 位置之间摆动。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 114823430 B 3