(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202122885797.6 (22)申请日 2021.11.23 (73)专利权人 深圳市坤弘科技有限公司 地址 518000 广东省深圳市宝安区西乡街 道黄麻布社区勒竹角坤弘工业园3 栋 (72)发明人 刘海龙　林桂礼　李小军　任金雁　 龚存华　 (74)专利代理 机构 深圳市世纪恒程知识产权代 理事务所 4 4287 专利代理师 李幸芳 (51)Int.Cl. B44C 1/165(2006.01) B32B 27/36(2006.01) B32B 27/06(2006.01) B32B 7/06(2006.01)B32B 33/00(2006.01) B32B 27/00(2006.01) B32B 27/42(2006.01) B32B 27/40(2006.01) B32B 27/32(2006.01) B32B 9/00(2006.01) B32B 9/04(2006.01) G09F 3/02(2006.01) G02B 5/08(2006.01) (54)实用新型名称 水转印反光膜 (57)摘要 本实用新型公开一种水转印反光膜， 该水转 印反光膜包括依次层叠设置的薄膜层、 离型层、 耐腐蚀层、 成像层、 镀铝层和保护层， 所述离 型层 为水熔性离型膜。 本实用新型技术方案能够实现 将水转印反光膜的上的图案顺利转印于产品上。 权利要求书1页 说明书4页 附图1页 CN 216708886 U 2022.06.10 CN 216708886 U 1.一种水转印反光膜， 其特征在于， 包括依次层叠设置的薄膜层、 离型层、 耐腐蚀层、 成 像层、 镀铝 层和保护层， 所述离型层为水 熔性离型膜。 2.如权利要求1所述的水转印反光膜， 其特征在于， 所述薄膜层由聚对苯二甲酸乙二醇 酯为原料， 并由挤出法制成厚片， 再 经双向拉伸制成。 3.如权利要求1所述的水转印反光膜， 其特征在于， 所述耐腐蚀层的厚度为大于或者 0.5 μm， 小于或者10 μm。 4.如权利要求1所述的水转印反光膜， 其特征在于， 所述耐腐蚀层的材质为酚醛树脂、 聚氨酯树脂、 聚四氟乙烯及碳纤维中的一种。 5.如权利要求1所述的水转印反光膜， 其特征在于， 所述耐腐蚀层由空气喷涂工艺粘接 固定于所述成像层的层面。 6.如权利要求1所述的水转印反光膜， 其特征在于， 所述镀铝层为在所述成像层采用真 空镀铝法将铝镀 于所述成像层背离所述离型层的一侧。 7.如权利要求1所述的水转印反光膜， 其特征在于， 所述成像层由树脂材料紫外光照射 固化制成 或模压制成。 8.如权利要求1至7中任意一项所述的水转印反光膜， 其特征在于， 所述薄膜层的厚度 大于或者10 μm， 小于或者20 μm。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 216708886 U 2水转印反光膜 技术领域 [0001]本实用新型 涉及水转印技 术领域， 特别涉及一种水转印反光膜。 背景技术 [0002]随着人们生活水平的日益提高， 对美 的追求也越来越强烈， 在一些塑胶或玻璃等 制品上雕刻或印染花纹图文的现象也越来越多， 现有技术中， 也有通过人工喷涂实现在塑 胶制品上印染花纹的， 但是这样喷涂出的花纹， 不太精致， 并且不均匀， 而且容 易脱落受损。 实用新型内容 [0003]本实用新型的主要目的是提出一种水转印反光膜， 旨在实现将水转印反光膜的上 的图案顺利转印于产品上。 [0004]为实现上述目的， 本 实用新型提出的水转印反光膜， 包括依次层叠设置的薄膜层、 离型层、 耐腐蚀层、 成像层、 镀铝 层和保护层， 所述离型层为水 熔性离型膜。 [0005]可选地， 所述薄膜层由聚对苯二甲酸乙二醇酯为原料， 并由挤出法制成厚片， 再经 双向拉伸制成。 [0006]可选地， 所述耐腐蚀层的厚度为大于或者0.5 μm， 小于或者10 μm。 [0007]可选地， 所述耐腐蚀层的材质为酚醛树脂、 聚氨酯树脂、 聚四氟乙烯及碳纤维中的 一种。 [0008]可选地， 所述耐腐蚀层由空气喷涂 工艺粘接固定 于所述成像层的层面。 [0009]可选地， 所述镀铝层为在所述成像层采用真空镀铝法将铝镀于所述成像层背离所 述离型层的一侧。 [0010]可选地， 所述成像层由树脂材 料紫外光照射固化制成 或模压制成。 [0011]可选地， 所述薄膜层的厚度大于或者10 μm， 小于或者20 μm。 [0012]本实用新型技术方案通过依次层叠设置的薄膜层、 离型层、 耐腐蚀层、 成像层、 镀 铝层和保护 层形成水转印反光膜， 该水转印反光膜适用于水转印工艺。 其中， 离型层为水熔 性离型膜， 以保证薄膜层顺利脱离成像层。 该水溶性离型膜中含有 水溶性离型剂， 当水转印 反光膜浸泡在水中时， 水溶性离型剂失效溶解， 使得薄膜层与成像层脱离， 而后可进 行水转 印工序。 同时， 在成像层与离型层之间设置耐腐蚀层， 以对成像层进行保护， 降低有效地避 免成像层受到环境中的水分、 酸性物质的腐蚀而发生老化和褪色， 使得成像层的图案能够 保持完整以及高的清晰度， 最终提高水转印反光膜的显示效果。 附图说明 [0013]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案， 下面将对实施例 或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍， 显而易见地， 下面描述中的附图仅仅 是本实用新型 的一些实施例， 对于本领域普通技术人员来讲， 在不付出创造性劳动的前提 下， 还可以根据这些附图示出的结构获得其 他的附图。说　明　书 1/4 页 3 CN 216708886 U 3