(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210787037.8 (22)申请日 2022.07.04 (71)申请人 深圳市震华 等离子体智造有限公司 地址 518100 广东省深圳市宝安区沙 井街 道后亭社区百通科技创新产业园A栋 208 (72)发明人 万华亿　韦太球　 (74)专利代理 机构 北京智行 阳光知识产权代理 事务所(普通 合伙) 11738 专利代理师 吴鸣 (51)Int.Cl. B08B 7/00(2006.01) B08B 13/00(2006.01) H01J 37/32(2006.01) B01D 47/02(2006.01)B01D 47/12(2006.01) B01D 49/00(2006.01) (54)发明名称 一种基板清洗用自旋式等离 子清洗机 (57)摘要 本发明公开了一种基板清洗用自旋式等离 子清洗机， 属于等离子清洗设备技术领域， 包括 壳体， 壳体内设置有等离子室， 等离子室内设置 有基柱， 基柱上套设有定位环柱， 等离子室内设 置有控制转环 转动的动力装置， 定位环柱靠近基 柱一端的侧壁上设置有第一夹固件； 第一夹固件 包括与放置槽内壁转动连接的第一旋柱， 第一旋 柱上设置有翻转齿轮， 基柱上设置有固定弧块， 固定弧块上设置有与翻转齿轮啮合的旋动齿。 方 案通过翻转齿轮以及固定弧块上旋动齿的设置， 当基板转动到旋动齿位置时， 会在旋动齿的作用 下旋转， 进行翻转动作， 通过上述设置， 在 清洗过 程中实现了环形的均匀清洗， 同时， 经过旋动齿 的基板会进行一次翻面， 保证基板正反面清洗的 均匀性。 权利要求书2页 说明书6页 附图4页 CN 115055446 A 2022.09.16 CN 115055446 A 1.一种基板清洗用自旋式等离子清洗机,包括壳体(1)， 其特征在于， 所述壳体(1)内由 上至下依次设置有功能腔(2)和辅助腔(3)， 所述功能腔(2)内设置有等离子室(4)， 所述辅 助腔(3)内设置有洁气系统， 其中： 所述等离子室(4)的一端设置有送料口(5)， 所述送料口(5)处设置有开关门(6)； 所述等离子室(4)远离所述送料口(5)一端的侧壁上设置有基柱(7)， 所述基柱(7)上套 设有转环(8)， 所述转环(8)侧壁上设置有转动齿(9)， 所述等离子室(4)内设置有微型电机 (10)， 所述 微型电机(10)的转轴上设置有与所述 转动齿(9)啮合的驱动齿轮(1 1)； 所述转环(8)上设置有定位环柱(12)， 所述定位环柱(12)截面呈正多边形设置， 所述定 位环柱(12)的侧壁上设置有推拉槽(13)， 所述推拉槽(13)内滑动设置有推拉板(14)； 所述推拉板(14)上设置有放置槽(15)， 所述放置槽(15)靠近所述基柱(7)一端的侧壁 上设置有第一夹固件(16)， 所述放置槽(15)远离所述第一夹固件(16)的一端设置有第二夹 固件(17)； 所述第一夹固件(16)包括与所述放置槽(15)内壁转动连接的第一旋柱(18)， 所述第一 旋柱(18)上设置有翻转齿轮(19)， 所述基柱(7)上设置有固定弧块(20)， 所述固定弧块(20) 上设置有与所述翻转齿轮(19)啮合的旋动齿(21)， 所述第一旋柱(18)的自由端设置有夹固 单元， 所述夹固单 元适用于 夹固基板； 所述第二夹固件(17)包括与所述放置槽(15)内壁转动连接的第二旋柱(22)， 所述第二 旋柱(22)的自由端设置有所述的夹固单 元。 2.根据权利要求1所述的一种基板清洗用自旋 式等离子清洗机， 其特征在于， 所述第 一 旋柱(18)上设置有伸缩槽(23)， 所述伸缩槽(23)内滑动设置有伸缩柱(24)， 所述夹固单元 设置在所述伸缩柱(24)自由端， 所述伸缩槽(23)内还设置有压簧(25)， 所述压簧(25)的一 端与伸缩柱(24)接触设置， 压簧(25)的另一端与伸缩槽(23)底端接触设置， 所述夹固单元 包括夹固板(26)， 所述夹固板(26)上设置有基板槽(27)， 所述夹固板(26)侧壁上还设置有 与所述基板 槽(27)连通的夹固螺纹孔(28)。 3.根据权利要求1所述的一种基板清洗用自旋 式等离子清洗机， 其特征在于， 所述推拉 槽(13)侧壁上设置有轨道 块(29)， 所述推 拉板(14)侧壁上设置有与所述轨道 块(29)配合的 轨道槽(3 0)， 所述推拉板(14)远离所述基柱(7)的一端设置有手 握块(31)。 4.根据权利要求1所述的一种基板清洗用自旋 式等离子清洗机， 其特征在于， 所述洁气 系统包括设置在所述辅助腔(3)内的水箱(32)、 过滤箱(33)和换气风机(34)， 所述水箱(32) 侧壁上连通设置有进水管(35)和出水管(36)， 所述进水管(35)上设置有进水开关(37)， 所 述出水管(36)上设置有出水开关(38)， 所述过滤箱(33)内设置有隔板(39)， 所述隔板(39) 将所述过滤箱(33)由上至下分隔为第一过滤室(40)和第二过滤室(41)， 所述第一过滤室 (40)的两端分别与所述水箱(32)和所述等离子室(4)连通设置， 所述换气风机(34)的进风 端与所述第二过滤室(41)连通设置， 所述换气风机(34)的出风端与所述水箱(32)底端 连通 设置。 5.根据权利要求4所述的一种基板清洗用自旋 式等离子清洗机， 其特征在于， 所述第 一 过滤室(40)内竖直设置有三个通风板(42)， 所述通风板(42)将所述第一过滤室(40)由左至 右分隔为进风腔(43)、 滤水腔(44)、 滤杂腔(45)和出风腔(46)， 所述进风腔(43)与所述水箱 (32)顶端连通设置， 所述出风腔(46)侧壁上设置有出风管(47)， 所述出风管(47)与所述等权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115055446 A 2离子室(4)连通设置， 所述滤水腔(44)内设置有干燥滤芯(48)， 所述滤杂腔(45)内设置有活 性炭滤芯(49)。 6.根据权利要求4所述的一种基板清洗用自旋 式等离子清洗机， 其特征在于， 所述第 二 过滤室(4 1)侧壁上设置有与外界连通的进气通孔(50)， 所述第二过滤室(41)内填充设置有 过滤棉(51)。 7.根据权利要求4所述的一种基板清洗用自旋 式等离子清洗机， 其特征在于， 所述等离 子室(4)侧壁内设置有降温水路(52)， 所述降温水路(52)呈 “S”型设置， 所述降温水路(52) 的两端连通设置有引水管(53)和放水管(54)， 所述引水管(53)与所述水箱(32)底端 连通设 置， 所述放水管(54)与所述水箱(32)顶端连通设置， 所述水箱(32)侧壁上还设置有制冷片 (63)。 8.根据权利要求7所述的一种基板清洗用自旋 式等离子清洗机， 其特征在于， 所述引水 管(53)上设置有水体滤芯(5 5)和负压泵(5 6)， 所述放水管(54)上设置有放水开关(57)。 9.根据权利要求7所述的一种基板清洗用自旋 式等离子清洗机， 其特征在于， 所述水箱 (32)底端还设置有围绕环板(58)， 所述引水管(53)的开口端设置在所述围绕环板(58)的中 间位置， 所述水箱(32)内设置有若干个扰流板(59)， 所述水箱(32)侧壁上还设置有液面传 感器(60)。 10.根据权利要求1 ‑9任意一项所述的一种基板清洗用自旋 式等离子清洗机， 其特征在 于， 所述转环(8)内壁上设置有若干个滚珠槽(61)， 所述滚珠槽(61)内设置有支撑滚珠 (62)， 所述支撑滚珠(62)与所述基柱(7)侧壁接触设置 。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115055446 A 3