(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210619597.2 (22)申请日 2022.06.02 (71)申请人 四川龙华 光电薄膜 股份有限公司 地址 621000 四川省绵阳市高端 装备制造 产业园凤 凰中路29号 (72)发明人 刁锐敏　赖新益　范家榕　朱邦峯　 龙涛　李佳霖　 (74)专利代理 机构 成都天嘉专利事务所(普通 合伙) 5121 1 专利代理师 向丹 (51)Int.Cl. B29C 48/08(2019.01) B29C 48/18(2019.01) B29D 7/01(2006.01) C08J 5/18(2006.01)C08L 23/12(2006.01) C08L 67/02(2006.01) C08L 33/12(2006.01) C08L 69/00(2006.01) C08K 3/22(2006.01) C08K 3/26(2006.01) C08K 3/36(2006.01) C08K 3/30(2006.01) C08K 3/34(2006.01) (54)发明名称 一种用于背光模组的薄型遮光反射片的制 备工艺 (57)摘要 本发明公开了一种用于背光模组的薄型遮 光反射片 的制备工艺， 包括以下步骤： 分别按以 下重量组分配制反射材料： 树脂60～90份、 无机 填料13.3～43.3份、 阻燃剂3～ 6份， 抗氧化剂1～ 3.0份和抗静电剂2～ 5份， 和遮 光材料： 树脂60～ 90份、 黑色母料0.3～1份、 阻燃剂3～ 6份， 抗氧化 剂1～3.0份和抗 静电剂2～ 5份； 将反射材料均质 后与遮光材料共挤制得膜片； 将膜片拉伸、 定型 后， 即得厚度为0.05～0.25mm的薄型遮光反射 片。 本发明利用分别配置的反射材料和遮光材 料， 采用共挤的方式挤出制得薄型遮光反射片， 可用于解决现有制备遮光反射片时存在的加工 过程复杂， 加工时间长以及材 料成本高的问题。 权利要求书1页 说明书7页 附图1页 CN 114919147 A 2022.08.19 CN 114919147 A 1.一种用于背光模组的薄型遮光反射片的制备工艺， 其特 征在于： 包括以下步骤： （1） 分别按以下重量组分配制反射材 料和遮光材 料： 反射材料包括： 树脂60～90份、 无机填料13.3～43.3份、 阻燃剂3～6份， 抗氧化剂1～ 3.0份和抗静电剂2 ～5份， 遮光材料包括： 树脂60～90份、 黑色母料0.3～1份、 阻燃剂3～6份， 抗氧化剂1～3.0份 和抗静电剂2 ～5份； （2） 将均质后的反射材 料和遮光材 料分别送入挤出机中， 经多层共挤制得膜片； （3） 将膜片拉伸、 定型后， 即得厚度为0.0 5～0.25m m的薄型遮光反射片。 2.根据权利要求1所述的制备工艺， 其特征在于： 所述反射材料和遮光材料中的树脂相 同或不同， 所述树脂选自聚丙烯树脂、 聚对苯二甲酸乙二醇酯、 聚萘二甲酸乙二醇酯、 聚对 苯二甲酸丙二醇酯、 聚对苯二甲酸 丁二醇酯、 聚甲基丙烯酸甲酯、 聚碳 酸酯中的至少一种。 3.根据权利要求1所述的制备工艺， 其特征在于： 所述无机填料选自碳酸钙、 碳酸镁、 碳 酸锌、 氧化钛、 氧化锌、 氧化铈、 氧化镁、 硫酸钡、 硫化锌、 磷酸钙、 二氧化硅、 氧化铝、 云母、 云 母钛、 滑石、 粘土、 高岭土、 氟化锂、 氟化钙中的至少一种。 4.根据权利要求1所述的制备工艺， 其特征在于： 所述反射材料和遮光材料中的 阻燃剂 相同或不同， 所述阻燃剂选自含有机磷系阻燃剂、 含硅系阻燃剂中的至少一种。 5.根据权利要求1所述的制备工艺， 其特征在于： 所述反射材料和遮光材料中的抗氧化 剂相同或不同， 所述 抗氧化剂为受阻酚系热 稳定剂。 6.根据权利要求1所述的制备工艺， 其特征在于： 所述反射材料和遮光材料中的抗静电 剂相同或不同， 所述抗静电剂选自硬脂基三甲基季铵盐酸盐、 硬脂酰胺丙基羟乙基季胺硝 酸盐、 对壬基苯 氧基丙基磺酸钠中的至少一种。 7.根据权利要求1所述的制备工艺， 其特征在于： 所述拉伸包括对共挤得到的膜片先纵 向拉伸1.5～ 2倍后， 再横向拉伸1.5～ 2倍。 8.根据权利要求1所述的制备工艺， 其特征在于： 所述薄型遮光反射片具有双面结构其 一面为反射材 料形成的反射 面， 另一面为遮光材 料形成的遮光 面。 9.根据权利要求8所述的制备工艺， 其特 征在于： 所述反射 面和/或遮光 面为多层结构。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 114919147 A 2一种用于背光模组的薄型遮光反射片的制备工艺 技术领域 [0001]本发明属于光学材料领域， 具体的说， 是一种用于背光模组的薄型遮光反射片的 制备工艺。 背景技术 [0002]液晶背光及导光键盘模组主要由光源、 反射片、 导光板、 各类光学膜片组成， 具有 亮度高， 寿命长、 发光均匀等特点。 反射片的主要作用是将漏出导光板底部的光线高效率且 无损耗地反射， 从而可以降低光损耗， 减少用电量， 提供液 晶显示面光饱和度。 反射片主要 为透明树脂 （如 PET+TiO2体系） 经细微发泡而制成， 其主要原理是TiO2的折射率很高为2.62， 其中泡的直径为数微粒左右， 折射率为1.00， 与PET树脂之间形成良好的曲折界面， 从导光 板出来的光经 过反射片后， 经 过多次反复的折 射路径， 能够使绝大部分的光返回导 光板中。 [0003]随着显示面板及导光键盘轻薄化的趋势， 背光模组的轻薄化已逐渐成为主流， 因 此需要使用薄型的反射片来有效減薄背光厚度， 但反射片厚度減薄随之带来的是反射片透 光而造成背光模组背面漏光现象， 进而使得背光模组组装至系统结构上造成系统漏光， 不 能满足使用要求。 [0004]现有技术中， 为解决薄型反射片透光而造成的背光漏光现象， 通常会在反射片背 面 （非导光板接触面） 增加遮光涂层或者贴合一层非透光薄膜或材料， 以达到遮光的目的， 例如： 公开号为CN111239873A的发明专利公开的一种高遮光性复合反射板及其制备方法， 该专利为解决背光模组重量大、 遮光性能差的问题， 提供了一种具有反射层/支撑层/遮光 层或反射层/遮光层/支撑层多层结构的复合反射板， 其中遮光层是用遮光层树脂与固化剂 形成涂布液， 然后将涂布液涂布于复合板上， 进行交联固化而制得。 以及公开号为 CN111694080A的发 明专利公开的一种高遮蔽耐指纹背光模组反射膜及其制备工艺， 该专利 首先利在基层上涂布实现反射功能的高折射层和具有抗指纹功能的抗指纹涂层， 以制备抗 指纹反射板， 最后在抗指纹反射板表面贴合具有遮光效果的镀银膜。 上述两件专利均是在 薄型反射片的基础上通过涂布或贴合的方式增加遮光层/膜， 来减少反射片透光和遮光的 目的， 但在实际生产过程中， 却使得反射片的加工程序更加复杂、 工时增加， 以及材料成本 的提高。 发明内容 [0005]本发明的目的在于提供一种用于背光模组的薄型遮光反射片的制备工艺， 利用分 别配置的反射材料和遮光材料， 采用共挤的方式挤出制得薄型遮光反射片， 用于解决现有 制备遮光反射片时存在的加工过程复杂， 加工时间长以及材 料成本高的问题。 [0006]本发明通过下述技术方案实现： 一种用于背光模组的薄型遮光反射片的制备工 艺， 包括以下步骤： （1） 分别按以下重量组分配制反射材 料和遮光材 料： 反射材料包括： 树脂60～90份、 无机填料13.3～43.3份、 阻燃剂3～6份， 抗氧化剂1说　明　书 1/7 页 3 CN 114919147 A 3