GB-T 44558-2024 III族氮化物半导体材料中位错成像的测试 透射电子显微镜法

ICS77.040 CCSH21 中华人民共和国国家标准 GB/T44558—2024 Ⅲ族氮化物半导体材料中位错成像的测试透射电子显微镜法 TestmethodfordislocationimaginginⅢ-nitridesemiconductormaterials— Transmissionelectronmicroscopy 2024-09-29发布 2025-04-01实施国家市场监督管理总局国家标准化管理委员会发布前言本文件按照GB/T1.1—2020《标准化工作导则第1部分:标准化文件的结构和起草规则》的规定起草。请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。本文件由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)与全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC203/SC2)共同提出并归口。本文件起草单位:中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、苏州纳维科技有限公司、江苏第三代半导体研究院有限公司、苏州科技大学、北京大学、国家纳米科学中心、北京大学东莞光电研究院、东莞市中镓半导体科技有限公司、TCL环鑫半导体(天津)有限公司、苏州大学、山东浪潮华光光电子股份有限公司、北京国基科航第三代半导体检测技术有限公司。本文件主要起草人:曾雄辉、董晓鸣、苏旭军、牛牧童、王建峰、徐科、王晓丹、徐军、郭延军、陈家凡、王新强、颜建锋、敖松泉、唐明华、闫宝华、李艳明。 ⅠGB/T44558—2024

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