(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202222910292.5 (22)申请日 2022.11.02 (73)专利权人 华海清科股份有限公司 地址 300350 天津市津南区咸水沽镇聚兴 道11号 (72)发明人 韩晓铠　刘远航　马旭　 (51)Int.Cl. H01L 21/67(2006.01) H01L 21/683(2006.01) B08B 1/00(2006.01) B08B 5/04(2006.01) (54)实用新型名称 一种基板后处理装置 (57)摘要 本实用新型公开了一种基板后处理装置， 其 包括： 吸盘， 用于真空吸附待处理的基板； 连接 座， 其设置于吸盘下部， 所述连接座与驱动电机 的输出轴连接， 以带动吸盘及其上的基板旋转； 后处理模组， 其设置于所述吸盘上侧， 以朝向基 板表面喷射清洗液； 清洁组件， 其设置于所述吸 盘上侧， 所述清洁组件包括清洁座， 所述清洁座 的下部设置有清洁刷， 所述清洁座还包括抽吸孔 道， 所述抽吸孔道围绕所述清洁刷设置， 以将吸 盘表面的颗粒物 移除至所述吸盘的外侧。 权利要求书1页 说明书6页 附图6页 CN 218039121 U 2022.12.13 CN 218039121 U 1.一种基板后处 理装置， 其特 征在于， 包括： 吸盘， 用于真空吸附待处 理的基板； 连接座， 其设置于吸盘下部， 所述连接座与驱动电机的输出轴连接， 以带动吸盘及其上 的基板旋转； 后处理模组， 其设置 于所述吸盘上侧， 以朝向基板表面喷射清洗液； 清洁组件， 其设置于所述吸盘上侧， 所述清洁组件包括清洁座， 所述清洁座的下部设置 有清洁刷， 所述清洁座还包括抽吸孔道， 所述抽吸孔道围绕所述清洁刷设置， 以将吸盘表 面 的颗粒物 移除至所述吸盘的外侧。 2.如权利要求1所述的基板后处理装置， 其特征在于， 所述清洁组件还包括摆臂和旋转 电机； 所述摆臂的一端转动连接于吸盘的外侧， 其另一端连接有 所述清洁座； 所述旋转电机 的输出轴与所述清洁刷连接， 以带动清洁刷绕 中轴线旋转。 3.如权利要求1所述的基板后处理装置， 其特征在于， 所述清洁座为盘状结构， 其下部 设置有第一凹槽， 用以安装所述清洁刷。 4.如权利要求3所述的基板后处理装置， 其特征在于， 所述清洁座的上部设置有第 二凹 槽， 所述抽吸孔道经由第二凹槽的底面向下延伸设置 。 5.如权利要求4所述的基板后处理装置， 其特征在于， 所述清洁座的上部设置有盖板， 所述盖板与所述第二凹槽形成与抽吸孔道连通的腔室； 所述盖板配置有与所述腔室连通的 通气孔， 所述 通气孔与外 部的真空源连接 。 6.如权利要求4所述的基板后处理装置， 其特征在于， 所述抽吸孔道为圆形孔， 其沿竖 直方向贯 通所述清洁座的厚度方向设置 。 7.如权利要求4所述的基板后处理装置， 其特征在于， 所述抽吸孔道的数量为多个， 其 以所述清洁座的中轴线为基准均匀分布。 8.如权利要求4所述的基板后处理装置， 其特征在于， 所述抽吸孔道沿所述清洁座的厚 度方向倾 斜设置， 所述抽吸孔道的倾 斜方向与所述吸盘的旋转方向相匹配。 9.如权利要求8所述的基板后处理装置， 其特征在于， 所述抽吸孔道的倾斜方向与吸盘 表面颗粒物的离心方向一 致。 10.如权利要求1所述的基板后处理装置， 其特征在于， 所述抽吸孔道的内侧壁设置有 防护层， 所述防护层由聚四氟乙烯制成。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 218039121 U 2一种基板后处理装 置 技术领域 [0001]本实用新型属于基板磨削技 术领域， 具体而言， 涉及一种基板后处 理装置。 背景技术 [0002]在半导体领域， 基板在被分割为半导体芯片之前， 通过磨削加工设备来磨削基板 的背面， 从而将基板减薄至预定的厚度； 而基板的相反面设置有电子器件。 [0003]基板磨削加工后， 基板 的表面会残留大量的颗粒物， 需要借助基板后处理装置清 洁吸盘表面， 避免颗粒物在基板后处 理装置中的吸盘表面 堆积。 [0004]现有的基板后处理装置中， 通过基板后处理模组对吸盘表面进行清洁。 由于吸盘 为多孔陶瓷， 其内部 极易残留微小颗粒物， 基板后处理模组无法对吸盘表面进 行有效清洁， 致使部分颗粒物残留于吸盘表面。 这些残留的微小颗粒物会影响吸盘表面的平整度， 降低 基板表面的加工质量， 甚至形成应力集中而致使基板破碎。 实用新型内容 [0005]本实用新型实施例提供了一种基板后处理装置， 旨在至少解决现有技术中存在的 技术问题之一。 [0006]本实用新型的实施例提供了一种基板后处 理装置， 包括： [0007]吸盘， 用于真空吸附待处 理的基板； [0008]连接座， 其设置于吸盘下部， 所述连接座与驱动电机的输出轴连接， 以带动吸盘及 其上的基板 旋转； [0009]后处理模组， 其设置 于所述吸盘上侧， 以朝向基板表面喷射清洗液； [0010]清洁组件， 其设置于所述吸盘上侧， 所述清洁组件包括清洁座， 所述清洁座的下部 设置有清洁刷， 所述清洁座还包括抽吸孔道， 所述抽吸孔道围绕所述清洁刷设置， 以将吸盘 表面的颗粒物 移除至所述吸盘的外侧。 [0011]在一个实施例中， 所述清洁组件还包括摆臂和旋转电机； 所述摆臂的一端转动连 接于吸盘的外侧， 其另一端连接有所述清洁座； 所述旋转电机的输出轴与所述清洁刷连接， 以带动清洁刷绕 中轴线旋转。 [0012]在一个实施例中， 所述清洁座为盘状结构， 其下部设置有第一凹槽， 用以安装所述 清洁刷。 [0013]在一个实施例中， 所述清洁座的上部设置有第二凹槽， 所述抽吸孔道经由第二凹 槽的底面向下延伸设置 。 [0014]在一个实施例中， 所述清洁座的上部设置有盖板， 所述盖板与所述第二凹槽形成 与抽吸孔道连通的腔室； 所述盖板配置有与所述腔室连通的通气孔， 所述通气孔与外部的 真空源连接 。 [0015]在一个实施例中， 所述抽吸孔道为圆形孔， 其沿竖直方向贯通所述清洁座的厚度 方向设置 。说　明　书 1/6 页 3 CN 218039121 U 3