(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202221416327.3 (22)申请日 2022.06.08 (73)专利权人 晶芯半导体 （黄石） 有限公司 地址 435000 湖北省黄石市经济技 术开发 区马垅畈路5 5号 (72)发明人 叶信广　刘鹏　左鹏　 (74)专利代理 机构 武汉世跃专利代理事务所 (普通合伙) 42273 专利代理师 万仲达 (51)Int.Cl. B65D 25/10(2006.01) B65D 85/86(2006.01) B65D 81/36(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (54)实用新型名称 一种配合于 硅片清洗 机的硅片清洗转 运箱 (57)摘要 本实用新型公开了一种配合于硅片清洗机 的硅片清洗转运箱， 包括运输箱， 所述运输箱内 部底面固定安装有硅片固定座， 所述硅片固定座 上表面开设有储存凹槽， 所述储存凹槽内部开设 有限位凹槽， 所述限位凹槽内部固定安装有电磁 铁， 所述电磁铁一侧且位于限位凹槽内部活动安 装有限位块， 所述限位块外表 面活动安装有挤压 滚轮， 所述运输箱内部底面开设有连接通孔， 所 述运输箱内部开设有清洗液储存仓， 所述连接通 孔与清洗 液储存仓内部相通。 通过启动电磁铁会 产生磁场， 带动挤压滚轮在限位凹槽内部移动， 挤压滚轮挤压硅片， 从而使硅片贴合旋转滚轮表 面， 启动动力电机可 以带动旋转滚轮旋转， 旋转 滚轮旋转会 带动硅片旋转， 可以清洗不同厚度的 硅片。 权利要求书1页 说明书4页 附图4页 CN 217779372 U 2022.11.11 CN 217779372 U 1.一种配合于硅片清洗机的硅片清洗转运箱， 包括运输箱(1)， 其特征在于： 所述运输 箱(1)内部底面固定安装有硅片固定座(2)， 所述硅片固定座(2)上表面开设有储存凹槽 (201)， 所述储存凹槽(201)内部开设有限位凹槽(3)， 所述限位凹槽(3)内部固定安装有电 磁铁(301)， 所述电磁铁(301)一侧且位于限位凹槽(3)内部活动安装有限位块(302)， 所述 限位块(302)外表面活动安装有挤压滚轮(303)， 所述运输箱(1)内部底面开设有连接通孔 (4)， 所述运输箱(1)内部开设有清洗液储存仓(5)， 所述连接通孔(4)与清洗液储存仓(5)内 部相通。 2.根据权利要求1所述的一种配合于硅片清洗机的硅片清洗转运箱， 其特征在于： 所述 运输箱(1)上表面活动安装有保护盖(101)， 所述 运输箱(1)内部固定安装有加热棒(102)。 3.根据权利要求1所述的一种配合于硅片清洗机的硅片清洗转运箱， 其特征在于： 所述 硅片固定座(2)上表面且位于储存凹槽(201)两侧固定安装有柔性清洗刷(202)， 所述硅片 固定座(2)内部固定安装有动力电机(203)， 所述动力电机(203)输出端固定安装有旋转滚 轮(204)。 4.根据权利要求1所述的一种配合于硅片清洗机的硅片清洗转运箱， 其特征在于： 所述 限位块(302)正表面开设有固定凹槽(304)， 所述固定凹槽(304)内部固定安装有磁石 (305)， 所述磁石(3 05)与电磁铁(3 01)相互配合。 5.根据权利要求1所述的一种配合于硅片清洗机的硅片清洗转运箱， 其特征在于： 所述 连接通孔(4)内部活动安装有 过滤器(401)， 所述连接通孔(4)内部且位于过滤器(401)下方 固定安装有电磁阀(402)。 6.根据权利要求1所述的一种配合于硅片清洗机的硅片清洗转运箱， 其特征在于： 所述 清洗液储 存仓(5)内部固定安装有 小型水泵(501)。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217779372 U 2一种配合于硅片清洗机的硅片清洗转运箱 技术领域 [0001]本实用新型属于硅片清洗技术领域， 具体涉及一种配合于硅片清洗机的硅片清洗 转运箱。 背景技术 [0002]硅片是制作半导体的主要材料， 半导体生产中的硅片， 必须进过多步骤且严谨的 清洗流程， 才可以进行生产， 稍微细小的污 渍残留， 都会造成半导体的实效。 [0003]如中国专利公开的公开号为CN214976216U的一种配合于硅片清洗机的硅片清洗 转运箱， 包括运输箱， 所述运输箱的顶端活动安装有保护盖， 所述保护盖的顶端固定安装有 把手一， 所述运输箱的内侧底端固定安装有 液压缸， 所述液压缸的顶端固定安装有传动盘， 所述传动盘的顶端固定安装有若干组连接座， 所述连接座的顶端开设有卡槽， 且连接座的 内侧固定安装有电机， 所述电机的一端传动安装有驱动轮， 所述驱动轮的一侧 位于卡槽的 内侧， 工作时， 解决了硅片清洗时不发生运动， 导致清洁效果较差的问题， 同时硅片上有部 分区域和装置接触， 导致清洗不到位的问题， 从而提高了装置的清洁效果， 但是其在 使用过 程中， 由于硅片尺寸不一样， 从而厚度也一样， 当厚度较小时， 其驱动轮无法贴合硅片表面 带动硅片旋转清洗， 且清洗液在不断清洗过程中， 会混有一定的脏污， 在后续清洗中， 清洗 效果较差的问题。 实用新型内容 [0004]本实用新型的目的在于提供一种配合于硅片清洗机的硅片清洗转运箱， 以解决上 述背景技术中提出现有的一种配合于硅片清洗机的硅片清洗转运箱在使用过程中， 由于硅 片尺寸不一样， 从而厚度也一样， 当厚度较小时， 其驱动轮无法贴合硅片表面带动硅片 旋转 清洗， 且清洗液在不断清洗过程中， 会混有一定的脏污， 在后续清洗中， 清洗效果较差的问 题。 [0005]为实现上述目的， 本实用新型提供如下技术方案： 一种配合于硅片清洗机 的硅片 清洗转运箱， 包括运输箱， 所述运输箱内部底面固定安装有硅片固定座， 所述硅片固定座上 表面开设有储存凹槽， 所述储存凹槽内部开设有限位凹槽， 所述限位凹槽内部固定安装有 电磁铁， 所述电磁铁一侧且位于限位凹槽内部活动安装有限位块， 所述限位块外表面活动 安装有挤压滚轮， 所述运输箱内部底面开设有连接通孔， 所述运输箱内部开设有清洗液储 存仓， 所述连接通 孔与清洗液储 存仓内部相通。 [0006]具体的， 通过设置的储存凹槽可以放置需要清洗的硅片， 启动电磁铁会产生磁场， 由于限位块内部设置有磁铁， 由于异性相吸会将限位块向限位凹槽内部一侧吸引， 限位块 会带动挤压滚轮移动， 从而将挤压滚轮完全收纳进入限位凹槽内部， 此时可以较为便捷的 将硅片放置进入储存凹槽， 再次启动电磁铁但是电流反向， 同性相斥， 会将挤压滚轮挤出限 位凹槽内部， 挤压滚轮会挤压硅片， 从而使硅片贴合旋转滚轮， 从而清洗硅片， 可以适应各 种厚度的硅片。说　明　书 1/4 页 3 CN 217779372 U 3