(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202211070720.6 (22)申请日 2022.09.02 (71)申请人 长鑫存储技术有限公司 地址 230601 安徽省合肥市经济技 术开发 区空港工业园兴业大道38 8号 (72)发明人 程迪　 (74)专利代理 机构 华进联合专利商标代理有限 公司 44224 专利代理师 曾旻辉 (51)Int.Cl. B08B 9/043(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (54)发明名称 半导体工艺设备、 废气处理装置与阻塞物清 理组件 (57)摘要 本公开涉及一种半导体工艺设备、 废气处理 装置与阻塞物清理组件， 组件包括驱动机构以及 刮料组件。 驱动机构包括串 联连接的至少两个气 缸单体， 气缸单体包括缸筒、 活动地穿设于缸筒 的活塞杆、 以及活动地设于缸筒内部并与活塞 杆 相连的活塞， 所有的活塞 杆依次串联连接形成驱 动杆。 刮料组件与驱动杆相连， 刮料组件用于活 动地设于废气处理装置的进气通道中， 以去除进 气通道内壁上沉积的阻塞物。 上述的阻塞物清理 组件， 通过多活塞的设计方式可以成倍地提升驱 动力的大小， 让气缸作动更加顺畅， 从而能更好 地清理进气通道内壁上的硬质结晶， 解决了传统 的气缸驱动力较小导致连杆处极易出现结晶并 使得气缸卡死无法作动进而导致整个进气通道 完全堵塞的问题。 权利要求书2页 说明书10页 附图6页 CN 115318767 A 2022.11.11 CN 115318767 A 1.一种阻塞物 清理组件， 其特 征在于， 所述阻塞物 清理组件包括： 驱动机构， 所述驱动机构包括串联连接的至少两个气缸单体， 所述气缸单体包括缸筒、 活动地穿设于所述缸筒的活塞杆、 以及活动地设于所述缸筒内部并与所述活塞杆相连的活 塞， 所有的所述活塞杆依次串联 连接形成 驱动杆； 刮料组件， 所述刮料组件与所述驱动杆相连， 所述刮料组件用于活动地设于废气处理 装置的进气通道中， 以去除所述进气通道内壁上沉积的阻塞物。 2.根据权利要求1所述的 阻塞物清理组件， 其特征在于， 所述阻塞物清 理组件还包括设 置于所述驱动杆与所述刮料组件之 间的旋转机构， 所述驱动杆通过所述旋转机构与所述刮 料组件相连。 3.根据权利要求2所述的 阻塞物清理组件， 其特征在于， 所述旋转机构包括第 一连接杆 与套筒； 所述套筒包括相对的第一端与第二端， 所述第一端与所述驱动机构相连， 所述第一 连接杆活动地穿设于所述套筒中， 所述第一连接杆两端分别连接所述驱动杆、 所述刮料组 件； 所述第一连接杆与所述套筒的其中一个上设有绕所述旋转机构的中心轴线呈弯曲状的 导向结构， 另一个设有与所述 导向结构相配合的导向件。 4.根据权利要求3所述的 阻塞物清理组件， 其特征在于， 所述导向结构为绕所述旋转机 构的中心轴线呈螺 旋状或弧形状设置 。 5.根据权利要求3所述的阻塞物清理组件， 其特征在于， 所述导向结构为凹槽、 通孔或 导轨。 6.根据权利要求3所述的阻塞物清理组件， 其特征在于， 所述导向结构为两个， 两个所 述导向结构分别位于所述第一连接杆的相对两侧或分别位于所述套筒的相对两侧； 所述导 向件为两个， 两个所述 导向件对应地设置 于两个所述 导向结构中。 7.根据权利要求3所述的 阻塞物清理组件， 其特征在于， 所述导向件为固定连接于所述 套筒内壁上 的针体、 柱体或凸部； 所述导向结构为形成于所述第一连接杆的外壁上 的螺旋 槽； 所述导向件插入到所述螺 旋槽中。 8.根据权利要求3所述的 阻塞物清理组件， 其特征在于， 所述刮料组件包括线圈以及第 二连接杆， 所述线圈、 所述第二连接杆均与所述第一连接杆相连， 所述第二连接杆穿设于所 述线圈中。 9.根据权利要求8所述的阻塞物清理组件， 其特征在于， 所述线圈为螺旋线圈， 所述线 圈包括可移动地套设于所述第一连接杆上的第一连接端， 以及与所述第一连接端相对设置 的第一自由端； 所述第二连接杆包括与所述第一连接杆相连的第二连接端， 以及与所述第 二连接端相对设置的第二自由端； 所述第一连接端的内径小于所述第二连接端的外径。 10.根据权利要求9所述的阻塞物清理组件， 其特征在于， 所述第二连接杆的端部与所 述第一连接杆的端部可拆卸连接 。 11.根据权利要求3所述的阻塞物清理组件， 其特征在于， 所述阻塞物清理组件还包括 连接于所述第二端的密封盖， 所述密封盖设有贯穿孔， 所述第一连接杆可动地穿设于所述 贯穿孔中， 所述第一连接杆上设有密封抵触部， 所述密封抵触部与所述套筒内壁密封抵触 配合， 所述密封抵触部与所述密封盖之间形成有腔室； 所述阻塞物清理组件还包括压力检 测器， 所述压力检测器用于检测所述腔室内部的气压 。 12.根据权利要求11所述的 阻塞物清 理组件， 其特征在于， 所述阻塞物清理组件还包括权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115318767 A 2套设于所述第一连接杆 上的密封圈， 所述密封圈位于所述 贯穿孔处。 13.根据权利要求1所述的阻塞物清理组件， 其特征在于， 至少两个所述气缸单体的缸 筒依次串联 连接， 并形成一体化结构。 14.根据权利要求1所述的阻塞物清理组件， 其特征在于， 所述气缸单体还包括第一进 气接头与第二进气 接头； 所述第一进气接头与所述第二进气接头均与所述缸筒的活塞室连 通， 并分别位于所述活塞的相对两侧， 所述第一进气接头与所述第二进气接头还均通过进 气管与气源连通。 15.一种废气处理装置， 其特征在于， 所述废气处理装置包括如权利要求1至14任意一 项所述的阻塞物清理组件， 还包括燃烧室， 所述燃烧室设有进气通道与排废管道， 所述刮料 组件活动地设于所述进气通道中， 所述 排废管道用于与厂务 酸排接收端相连。 16.一种半导体工艺设备， 其特征在于， 所述半导体工艺设备包括如权利要求15所述的 废气处理装置， 还包括半导体主机台、 抽气管道与抽吸泵， 所述半导体主机台的排废口与所 述抽气管道的一端相连通， 所述抽气管道的另一端与所述进气管道相连通， 所述抽吸泵串 联地设置 于所述抽气管道上， 用于提供动力将所述半导体主机台 内部的废气向外抽出。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115318767 A 3