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ICS 31.200 L 55 中华人民共和国国家标准 GB/T 34893—2017 微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构 面内长度测量方法 Micro-electromechanical system technology- Measuring method for in-plane length measurements of MEMS microstructures using an optical interferometer 2018-05-01实施 2017-11-01发布 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 发布 中国国家标准化管理委员会 GB/T34893—2017 目 次 前言 1 范围 2 规范性引用文件 3术语和定义 4测量方法 影响测量不确定度的主要因素 附录A(资料性附录) 光学干涉显微镜的典型形式和主要技术特点 GB/T 34893—2017 前言 本标准按照GB/T1.12009给出的规则起草。 本标准由全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC336)提出并归口。 本标准主要起草单位:天津大学、中机生产力促进中心、国家仪器仪表元器件质量监督检验中心、南 京理工大学中国电子科技集团公司第十三研究所 本标准主要起草人:胡晓东、郭彤、于振毅、李海斌、程红兵、裘安萍、崔波、朱悦。 GB/T 34893—2017 微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构 面内长度测量方法 1范围 本标准规定了基于光学干涉显微镜获取MEMS微结构表面形貌进行面内长度测量的方法。 本标准适用于表面反射率不低于4%,宽深比不低于1:10,且使用光学干涉显微镜能够获取形貌 的MEMS微结构。 2规范性引用文件 2 下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文 件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。 GB/T3505产品几何技术规范(GPS)表面结构轮廓法术语、定义及表面结构参数 GB/T26111微机电系统(MEMS)技术术语 GB/T26113微机电系统(MEMS)技术微几何量评定总则 3 3术语和定义 GB/T.3505和GB/T26111界定的以及下列术语和定义适用于本文件。 3.1 表面形貌 surfacetopography 表面结构的宏观和微观几何特性。 注:一般包括表面几何形状、表面波纹度、表面粗糙度及表面缺陷等。 3.2 面内长度in-planelength 表面有边缘结构特征的两点、点与线或两条线之间的距离。 4测量方法 4.1总则 4.1.1实施面内长度测量前提是MEMS结构具备阶梯型边缘结构,两边缘结构(端面1和端面2)之间 的距离即为所测微结构的面内长度,如图1所示。 1
GB-T 34893-2017 微机电系统 MEMS 技术 基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法
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