(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 20212327937 7.X (22)申请日 2021.12.24 (73)专利权人 华厦半导体 （深圳） 有限公司 地址 518117 广东省深圳市龙岗区坪 地街 道坪西社区龙岗大道(坪地段)1001号 通产丽星科技产业园厂房七402 (72)发明人 谈逊　谈谦　刘宁波　刘才　吴曦　 王占玲　 (74)专利代理 机构 合肥市都耒知识产权代理事 务所(普通 合伙) 34227 专利代理师 何鑫鑫 (51)Int.Cl. B01D 46/10(2006.01) B01D 53/04(2006.01) F25D 31/00(2006.01)B01D 46/42(2006.01) (54)实用新型名称 一种MOCVD反应室粉尘清理装置 (57)摘要 本实用新型公开了一种MOCVD反应 室粉尘清 理装置， 包括收集 室、 清理结构、 抽风机、 净化箱、 导管、 滤网、 活性炭网、 密封板、 滑板、 收纳箱、 摆 动结构和冷却结构。 本实用新型的有益效果是： 将导管与MOCVD反应室连通， 随后启动抽风机， 进 而MOCVD反应室内的粉尘会被吸附至净化箱中， 进而通过滤网进行过滤， 使得粉尘留在净化箱 内， 通过冷却结构对净化箱内部空气进行降温， 从而冷却液使高温的粉尘温度快速降低， 粉尘会 逐渐落入至净化箱的底部密封板上， 随后回收粉 尘时， 只需利用摆动结构带动滑板滑动， 滑板滑 动会与密封板分离， 从而密封板会在重力和摆动 结构的作用下转动， 进而使密封板上的粉尘落入 至收纳箱中， 便于清理MOCVD反应室中的粉尘和 回收金属材 料。 权利要求书1页 说明书4页 附图3页 CN 216726269 U 2022.06.14 CN 216726269 U 1.一种MOCVD反应室粉尘清理装置， 包括收集室(1)， 其特征在于： 所述收集室(1)上设 有清理结构(2)， 所述清理结构(2)包括抽风机(21)、 净化箱(22)、 导管(23)、 滤网(24)、 活性 炭网(25)、 密封板(26)、 滑板(27)和收纳箱(28)， 所述收集室(1)的顶部安装有所述抽风机 (21)， 所述收集室(1)的内壁固定安装有所述净化箱(22)， 所述抽风机(21)的一端与所述净 化箱(22)相连接， 所述净化箱(22)的侧面安装有所述导管(23)， 所述净化箱(22)的内壁固 定有所述滤网(24)， 且 所述滤网(24)位于所述导管(23)的顶部， 所述收集室(1)内安装有所 述活性炭网(25)， 所述活性炭网(25)位于所述滤网(24)和所述抽风机(21)之间， 所述净化 箱(22)的底部转动连接有所述密封板(26)， 所述收集室(1)的内壁滑动连接有所述滑板 (27)， 所述滑板(27)与所述密封板(26)抵触， 所述收集室(1)的上滑动连接有所述收纳箱 (28)， 所述收纳箱(28)位于所述密封板(26)的底部， 所述收集室(1)上设有摆动结构(3)， 所 述摆动结构(3)连接 于所述滑板(27)， 所述收集室(1)上设有冷却结构(5)。 2.根据权利要求1所述的一种MOCVD反应室粉尘清理装置， 其特征在于： 所述摆动结构 (3)包括转轴(31)、 扭簧(32)、 推杆(33)和复位弹簧(34)， 所述净化箱(22)的内壁固定连接 有所述转轴(31)， 所述密封板(26)的一端与所述转轴(31)之间转动连接， 所述转轴(31)上 套设有所述扭簧(32)， 所述扭簧(32)的两端分别连接于所述密封板(26)和所述转轴(31)， 所述推杆(33)贯穿所述收集室(1)的内壁并与所述滑板(27)之间固定连接， 所述滑板(27) 与所述收集室(1)设有所述复位弹簧(34)。 3.根据权利要求2所述的一种MOCVD反应室粉尘清理装置， 其特征在于： 所述推杆(33) 的一端为球 体。 4.根据权利要求1所述的一种MOCVD反应室粉尘清理装置， 其特征在于： 所述冷却结构 (5)包括注液孔(51)、 冷却腔(52)和排液阀(53)， 所述收集室(1)的顶部开设有所述注液孔 (51)， 所述收集室(1)的内壁设有所述冷却腔(52)， 所述冷却腔(52)位于所述净化箱(22)的 侧面， 所述注液孔(51)与所述冷却腔(52)连通， 所述冷却腔(52)的一端设有安装有所述排 液阀(53)。 5.根据权利要求1所述的一种MOCVD反应室粉尘清理装置， 其特征在于： 所述收纳箱 (28)的侧面设有把手(4)， 且所述 把手(4)的一端截面 为波浪形。 6.根据权利要求1所述的一种MOCVD反应室粉尘清理装置， 其特征在于： 所述收纳箱 (28)的内壁 转动连接有 多个滚轮(6)， 所述滚轮(6)与所述收集室(1)之间滚动连接 。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 216726269 U 2一种MOCVD反 应室粉尘清理装 置 技术领域 [0001]本实用新型涉及一种清理装置， 具体为一种MOCVD反应室粉尘清理装置， 属于半导 体设备技 术领域。 背景技术 [0002]MOCVD是指： 金属有机化合物化学气相淀积， MOCVD技术是在气相外延生长的基础 上发展起来的一种新型气相外延生长技术。 该MOCVD技术以III族、 II族元素的有机化合物 和V、 VI族元素的氢化物等作为晶体生长源材料， 以热分解反应方式在衬底上进行气相外 延， 生长各种III ‑V族、 II‑VI族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶材料。 在 MOCVD反应腔中， MOCVD生长机构及其复杂生长过程涉及输运和多组分、 多相的化学反应， 现 有的MOCVD反应室内会产生 一些粉尘， 往 往都是直接采用工业吸尘器进行吸 收。 [0003]但现有的一些MOCVD反应室 内的粉尘由于初始温度较高， 粉尘浓度不确定， 可能处 于不稳定状态， 不宜直接与外界空气混合接触， 同时粉尘中存在可回收的金属粉尘， 直接采 用吸尘器吸 收会不利于金属的回收， 造成资源的浪费和成本的提高。 实用新型内容 [0004]本实用新型的目的就在于为了解决上述问题而提供一种MOCVD反应室粉尘清理装 置， 回收方便， 稳定性强， 操作简便 。 [0005]本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的， 一种MOCVD反应室粉尘清理装置， 包括收集室， 所述收集室上设有清理结构， 所述清理结构包括抽风机、 净化箱、 导管、 滤网、 活性炭网、 密封板、 滑板和收纳箱， 所述收集室的顶部安装有所述抽风机， 所述收集室的内 壁固定安装有所述净化箱， 所述抽风机的一端与所述净化箱相连接， 所述净化箱的侧 面安 装有所述导管， 所述净化箱的内壁固定有 所述滤网， 且所述滤网位于所述导管的顶部， 所述 收集室内安装有所述活性炭网， 所述活性炭网位于所述滤网和所述抽风机之间， 所述净化 箱的底部转动连接有所述密封板， 所述收集室的内壁滑动连接有所述滑板， 所述滑板与所 述密封板抵触， 所述收集室的上滑动连接有所述收纳箱， 所述收纳箱位于所述密封板的底 部， 所述收集室上设有摆动结构， 所述摆动结构连接于所述滑板， 所述收集室上设有冷却结 构。 [0006]优选的， 为了便于粉尘稳定后再进行收集， 所述摆动结构包括转轴、 扭簧、 推杆和 复位弹簧， 所述净化箱的内壁固定连接有所述转轴， 所述密封板的一端与所述转轴之间转 动连接， 所述转轴上套设有所述扭簧， 所述扭簧的两端分别连接于所述密封板和所述转轴， 所述推杆贯穿所述收集室的内壁并与所述滑板之间固定连接， 所述滑板与所述收集室设有 所述复位弹簧。 [0007]优选的， 为了 便于推动推杆， 所述推杆的一端为球 体。 [0008]优选的， 为了便于对净化箱进行冷却， 所述冷却结构包括注液孔、 冷却腔和排液 阀， 所述收集室的顶部开设有 所述注液孔， 所述收集室的内壁设有 所述冷却腔， 所述冷却腔说　明　书 1/4 页 3 CN 216726269 U 3